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1. (WO2013035642) インプリントモールドの製造方法及びレジスト現像装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035642    国際出願番号:    PCT/JP2012/072182
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 31.08.2012
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01)
出願人: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Nakaochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IYAMA Hiromasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI Hideo; (JP).
IYAMA Hiromasa; (JP)
代理人: ANIYA Setuo; 21 TOWA BLDG. 3F, 6-1, Iidabashi 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1020072 (JP)
優先権情報:
2011-195280 07.09.2011 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING IMPRINT MOLD, AND RESIST DEVELOPING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOULE D'IMPRESSION, ET DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT DE RÉSIST
(JA) インプリントモールドの製造方法及びレジスト現像装置
要約: front page image
(EN)The present invention provides a method for manufacturing an imprint mold that can suppress temperature variations in a developing fluid supplied to a substrate to be processed and stably carry out processing of the substrate to be processed along with supplying the developing fluid and also provides a resist developing device. This resist developing device is characterized by being provided with: a retention unit (4) that retains a developing fluid (11) controlled in a constant temperature state; a holding unit (8) that holds a substrate to be processed (6); a supply pipe (5) that forms a flow path for the developing fluid retained in the retention unit to flow in, has a discharge unit (14) that discharges the developing fluid flowing along this flow path, and supplies the developing fluid to the substrate to be processed by discharging the developing fluid from the discharge unit towards the substrate to be processed, which is held by the holding unit; and a variation unit that executes a first variable operation that varies the discharge direction of the discharge unit to a non-arriving direction such that the developing fluid discharged from the discharge unit of the supply pipe does not reach the substrate to be processed and a second variable operation that varies the discharge direction of the discharge unit to an arrival direction such that the developing fluid discharged from the discharge unit of the supply pipe arrives at the substrate to be processed.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'un moule d'impression qui peut supprimer des variations de température dans un liquide de développement fourni à un substrat à traiter et réaliser d'une manière stable un traitement de substrat à traiter avec alimentation en liquide de développement, et porte également sur un dispositif de développement de résist. Ce dispositif de développement de résist est caractérisé en ce qu'il comprend : une unité de retenue (4) qui retient un liquide de développement (11) régulé dans un état de température constante; une unité de support (8) qui tient un substrat à traiter (6); un tuyau d'alimentation (5) qui forme un chemin d'écoulement dans lequel peut s'écouler le liquide de développement retenu dans l'unité de retenue, comprend une unité d'éjection (14) qui éjecte le liquide de développement s'écoulant le long de ce chemin d'écoulement, et fournit le liquide de développement au substrat à traiter par éjection du liquide de développement par l'unité d'éjection vers le substrat à traiter, qui est tenu par l'unité de support; et une unité de variation qui exécute une première opération variable qui fait varier la direction d'éjection de l'unité d'éjection vers une direction de non-arrivée, de sorte que le liquide de développement éjecté par l'unité d'éjection du tuyau d'alimentation n'atteint pas le substrat à traiter, et une seconde opération variable qui fait varier la direction d'éjection de l'unité d'éjection vers une direction d'arrivée de sorte que le liquide de développement éjecté par l'unité d'éjection du tuyau d'alimentation arrive au niveau du substrat à traiter.
(JA) 本発明は、被処理基板に供給される現像液の温度変動を抑え、現像液の供給を伴う被処理基板の処理を安定的に行うことができるインプリントモールドの製造方法及びレジスト現像装置を提供する。 本発明におけるレジスト現像装置は、恒温状態に制御された現像液(11)を貯留する貯留部(4)と、被処理基板(6)を保持する保持部(8)と、貯留部に貯留された現像液を流すための流路を形成するとともに、この流路に沿って流れた現像液を吐出する吐出部(14)を有し、保持部に保持された被処理基板に向けて吐出部から現像液を吐出することにより、現像液を被処理基板に供給する供給管(5)と、供給管の吐出部から吐出する現像液を被処理基板に到達させないように吐出部の吐出方向を非到達方向へ変動させる第1の変動動作と、供給管の吐出部から吐出する現像液を被処理基板に到達させるように吐出部の吐出方向を到達方向へ変動させる第2の変動動作を実行する変動部を備えることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)