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1. (WO2013035415) レチクルチャッククリーナー及びレチクルチャッククリーニング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035415    国際出願番号:    PCT/JP2012/066041
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 22.06.2012
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI Yoshihito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITOH Masamitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
INADA Taro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WATANABE Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI Yoshihito; (JP).
ITOH Masamitsu; (JP).
INADA Taro; (JP).
WATANABE Jun; (JP)
代理人: WATANABE Kaoru; KUNPU INTELLECTUAL PROPERTY AGENTS, SUCCESS-SENGAKUJI BLDG. 3F, 2-20-29, Takanawa, Minato-ku, Tokyo 1080074 (JP)
優先権情報:
2011-192595 05.09.2011 JP
発明の名称: (EN) RETICLE CHUCK CLEANER AND RETICLE CHUCK CLEANING METHOD
(FR) NETTOYEUR DE MANDRIN À RÉTICULES ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE MANDRIN À RÉTICULES
(JA) レチクルチャッククリーナー及びレチクルチャッククリーニング方法
要約: front page image
(EN)As a reticle chuck cleaner enabling easy cleaning of a reticle chuck in a vacuum chamber of an EUV exposure device without exposing the interior of the vacuum chamber to the atmosphere, and which can help improve the operating ratio of the EUV exposure device, provided is a reticle chuck cleaner (A) for cleaning a reticle chuck in an EUV exposure device, said reticle chuck cleaner (A) being provided with an adhesive layer (1) to be applied to a chuck area of a reticle chuck, a support layer (2) laminated adjacent to the adhesive layer (1), and a substrate (3) having a shape enabling transport to the reticle chuck. The support layer (2) is partially bonded to the substrate (3) via bonding areas (41) of a partial adhesion layer (4).
(FR)A titre de nettoyeur de mandrin à réticules permettant un nettoyage aisé d'un mandrin à réticules dans une chambre à vide d'un dispositif d'exposition aux ultraviolets extrêmes (EUV) sans exposer l'intérieur de la chambre à vide à l'atmosphère, et qui peut aider à améliorer le facteur d'utilisation du dispositif d'exposition EUV, l'invention porte sur un nettoyeur de mandrin à réticules (A) servant à nettoyer un mandrin à réticules dans un dispositif d'exposition EUV, ledit nettoyeur de mandrin à réticules (A) comprenant une couche d'adhésif (1) à appliquer à une zone de mandrin d'un mandrin à réticules, une couche de support (2) stratifiée adjacente à la couche d'adhésif (1), et un substrat (3) ayant une forme permettant un transport jusqu'au mandrin à réticules. La couche de support (2) est partiellement liée au substrat (3) par des zones de liaison (41) d'une couche d'adhérence partielle (4).
(JA) EUV露光装置の真空チャンバー内を大気に晒すことなく、該チャンバー内のレチクルチャックのクリーニングを簡易に行うことができ、EUV露光装置の稼働率向上に寄与し得るレチクルチャッククリーナーとして、EUV露光装置のレチクルチャックをクリーニングするためのレチクルチャッククリーナーAであって、レチクルチャックのチャック領域に貼り付けられる粘着剤層1と、粘着剤層1に積層された支持層2と、レチクルチャックまで搬送可能な形状を有する基板3と、を具備し、支持層2と基板3とが部分粘着層4の接着領域41において部分的に接着されているレチクルチャッククリーナーAを提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)