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1. (WO2013035377) プラズマ発生装置、CVD装置およびプラズマ処理粒子生成装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035377    国際出願番号:    PCT/JP2012/060846
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 23.04.2012
IPC:
H05H 1/24 (2006.01), C23C 16/452 (2006.01), C23C 16/505 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
出願人: TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION [JP/JP]; 13-16, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1080073 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TABATA Yoichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WATANABE Kensuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TABATA Yoichiro; (JP).
WATANABE Kensuke; (JP)
代理人: YOSHITAKE Hidetoshi; 10th floor, Sumitomo-seimei OBP Plaza Bldg., 4-70, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
優先権情報:
2011-196323 08.09.2011 JP
発明の名称: (EN) PLASMA GENERATION DEVICE, CVD DEVICE AND PLASMA TREATMENT PARTICLE GENERATION DIVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA, DISPOSITIF CVD ET DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PARTICULES POUR TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ発生装置、CVD装置およびプラズマ処理粒子生成装置
要約: front page image
(EN)The present invention provides a plasma generation device wherein even if a source gas is supplied in a housing in which an electrode cell is disposed, no problem occurs such as corrosion on a power supply unit and an electrode surface disposed in the housing and the deposit of metal inside the housing except for the discharger of the electrode cell. A plasma generation device (100) according to the present invention includes an electrode cell and a housing (16) that surrounds the electrode cell. The electrode cell has a first electrode (3), a second electrode (1) facing the first electrode (3) via discharging space (6), and dielectrics (2a, 2b) arranged on the principal surface of each electrode (1, 3). Further, the plasma generation device (100) is provided with a pipeline (75) for directly supplying the source gas from the outside of the housing (16) to the discharging space (6) without being connected to the space inside the housing (16) where no electrode cell is disposed.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de génération de plasma avec lequel, même si un gaz source est acheminé dans un boîtier dans lequel est disposée une cellule à électrode, il ne se produit aucun problème tel que la corrosion sur une unité d'alimentation électrique et la surface d'une électrode disposée dans le boîtier et le dépôt de métal à l'intérieur du boîtier à l'exception de l'éclateur de la cellule à électrode. Un dispositif de génération de plasma (100) selon la présente invention comprend une cellule à électrode et un boîtier (16) qui entoure la cellule à électrode. La cellule à électrode comprend une première électrode (3), une deuxième électrode (1) faisant face à la première électrode (3) par l'intermédiaire d'un espace de décharge (6) et des diélectriques (2a, 2b) disposés sur la surface principale de chaque électrode (1, 3). Le dispositif de génération de plasma (100) est en outre équipé d'une conduite (75) pour acheminer directement le gaz source depuis l'extérieur du boîtier (16) vers l'espace de décharge (6) sans être en liaison avec l'espace à l'intérieur du boîtier (16) où n'est disposée aucune cellule à électrode.
(JA) 本発明は、原料ガスを電極セルが配置された筺体内に供給したとしても、筺体内に配設されている電気給電部や電極面が腐食や、電極セルの放電部以外の筺体内部での金属の堆積といった問題が発生することない、プラズマ発生装置を提供する。そして、本発明に係るプラズマ発生装置(100)は、電極セルと、当該電極セルを囲繞する筐体(16)とを備えている。電極セルは、第一の電極(3)と、放電空間(6)を介して第一の電極(3)と対面している第二の電極(1)と、各電極(1,3)の主面に配置される誘電体(2a,2b)とを有している。さらに、プラズマ発生装置(100)は、電極セルが配設されていない筺体(16)内部の空間と接続すること無く、筺体(16)外から放電空間(6)へと直接、原料ガスを供給する管路(75)を、備えている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)