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1. (WO2013035375) プラズマ発生装置およびCVD装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035375    国際出願番号:    PCT/JP2012/060630
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 19.04.2012
IPC:
H05H 1/24 (2006.01), C23C 16/452 (2006.01), C23C 16/505 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
出願人: TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION [JP/JP]; 13-16, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1080073 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TABATA Yoichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WATANABE Kensuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TABATA Yoichiro; (JP).
WATANABE Kensuke; (JP)
代理人: YOSHITAKE Hidetoshi; 10th floor, Sumitomo-seimei OBP Plaza Bldg., 4-70, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
優先権情報:
2011-196908 09.09.2011 JP
発明の名称: (EN) PLASMA GENERATOR AND CVD DEVICE
(FR) GÉNÉRATEUR DE PLASMA ET DISPOSITIF CVD
(JA) プラズマ発生装置およびCVD装置
要約: front page image
(EN)The present invention provides a plasma generator that can output large amounts of metal functional material particle gas, which is used for growth of a functional insulating film on a material to be processed, with good efficiency. A plasma generator (100) of the present invention is provided with an electrode cell and a housing (16) surrounding the electrode cell. The electrode cell has a first electrode (3), a discharge space (6), a second electrode (1), dielectrics (2a, 2b), and a through opening (PH) formed in the center part in a plane view. Furthermore, a cylindrically shaped insulating tube part (21) is disposed on the inside of the through opening (PH), and the side surface part of this cylindrical shape has spray holes (21x). The plasma generator (100) is further provided with a precursor supply part (201), which supplies a metal precursor, connected to a hollow part (21A) of the insulating tube part (21).
(FR)La présente invention concerne un générateur de plasma qui peut délivrer avec un bon rendement de grandes quantités d'un gaz de particules de matériau métallique fonctionnel qui est utilisé pour la croissance d'un film isolant fonctionnel sur un matériau à traiter. Un générateur de plasma (100) selon la présente invention comprend une cellule à électrode et un boîtier (16) qui entoure la cellule à électrode. La cellule à électrode comprend une première électrode (3), un espace de décharge (6), une deuxième électrode (1), des diélectriques (2a, 2b) et une ouverture de passage (PH) formée dans la partie centrale d'une vue en plan. Une partie tube isolant (21) de forme cylindrique est en outre disposée à l'intérieur de l'ouverture de passage (PH) et la partie de surface latérale de cette forme cylindrique présente des trous de pulvérisation (21x). Le générateur de plasma (100) comprend en outre une partie de fourniture de précurseur (201) qui délivre un précurseur métallique et qui est reliée à une partie creuse (21A) de la partie tube isolant (21).
(JA) 本発明は、被処理材に機能絶縁膜を成膜するために使用される金属機能物質粒子ガスを効率良く、多量に出力することができるプラズマ発生装置を提供する。本発明に係るプラズマ発生装置100は、電極セルと、電極セルを囲繞する筐体(16)とを備えている。電極セルは、第一の電極(3)と、放電空間(6)と、第二の電極(1)と、誘電体(2a,2b)と、平面視において中央部に形成された貫通口(PH)とを、有する。そして、円筒形状の絶縁筒部(21)が、貫通口(PH)の内部に配設されており、当該円筒形状の側面部に噴出孔(21x)を有する。さらに、プラズマ発生装置(100)は、絶縁筒部(21)の空洞部(21A)に接続される、金属前駆体を供給する前駆体供給部(201)を備えている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)