WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2013035360) 酸化マグネシウム薄膜の作成方法及び処理板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035360    国際出願番号:    PCT/JP2012/056191
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 09.03.2012
IPC:
C30B 29/16 (2006.01), B01D 53/02 (2006.01), B01D 53/04 (2006.01), B01J 20/04 (2006.01), B01J 20/34 (2006.01), B01J 21/10 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01)
出願人: Japan Science and Technology Agency [JP/JP]; 4-1-8, Honcho, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUSAKI Tomofumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HOSONO Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUJIHASHI Tadahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TODA Yoshitake [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SUSAKI Tomofumi; (JP).
HOSONO Hideo; (JP).
FUJIHASHI Tadahiro; (JP).
TODA Yoshitake; (JP)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2011-197562 09.09.2011 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMING MAGNESIUM OXIDE THIN FILM AND PROCESSED PLATE
(FR) PROCÉDÉ POUR FORMER UNE COUCHE MINCE D'OXYDE DE MAGNÉSIUM ET PLAQUE TRAITÉE
(JA) 酸化マグネシウム薄膜の作成方法及び処理板
要約: front page image
(EN)A method for depositing a magnesium oxide thin film on a substrate by a laser ablation method using a sintered body or single crystal of magnesium oxide as a target. In this method, a flat processed film, which is composed of magnesium oxide having the (111) plane as a surface, is formed by directly depositing and epitaxially growing a film on the main surface of a substrate that is composed of strontium titanate having the (111) plane as the main surface or yttria-stabilized zirconia having the (111) plane as the main surface.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour déposer une couche mince d'oxyde de magnésium sur un substrat par un procédé d'ablation laser en utilisant un corps fritté ou un monocristal d'oxyde de magnésium en tant que cible. Dans ce procédé, un film traité plat, qui est composé d'oxyde de magnésium ayant le plan (111) en tant que surface, est formé par dépôt direct et croissance épitaxiale d'un film sur la surface principale d'un substrat qui est composé de titanate de strontium ayant le plan (111) en tant que surface principale ou d'oxyde de zirconium stabilisé par l'oxyde d'yttrium ayant le plan (111) en tant que surface principale.
(JA) レーザアブレーション法により酸化マグネシウムの焼結体又は単結晶をターゲットとして用いて酸化マグネシウム薄膜を基板上に堆積する方法である。この方法では、(111)面を主面とするチタン酸ストロンチウムまたは(111)面を主面とするイットリア安定化ジルコニアからなる基板を用い、前記基板の前記主面上に膜を直接堆積しエピタキシャル成長させることによって(111)面を表面とする酸化マグネシウムからなる平坦な処理膜を作成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)