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1. (WO2013035258) 固体撮像装置、及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/035258    国際出願番号:    PCT/JP2012/005319
国際公開日: 14.03.2013 国際出願日: 24.08.2012
IPC:
H01L 27/14 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WADA, Atsuo; (米国のみ).
SUZUKI, Masakatsu; (米国のみ).
OODAIRA, Akira; (米国のみ)
発明者: WADA, Atsuo; .
SUZUKI, Masakatsu; .
OODAIRA, Akira;
代理人: NII, Hiromori; c/o NII Patent Firm, 6F, Tanaka Ito Pia Shin-Osaka Bldg.,3-10, Nishi Nakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-city, Osaka 5320011 (JP)
優先権情報:
2011-193897 06.09.2011 JP
発明の名称: (EN) SOLID-STATE IMAGE CAPTURE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME
(FR) DISPOSITIF DE CAPTURE D'IMAGE À L'ÉTAT SOLIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 固体撮像装置、及びその製造方法
要約: front page image
(EN)A solid-state image capture device (100) according to the present invention comprises a semiconductor substrate (10), a plurality of photoelectric conversion units (11) which are formed in a matrix upon the semiconductor substrate (10), an inter-layer insulating film (20) which is formed upon the semiconductor substrate (10), optical waveguide paths (30) which are formed above each of the plurality of photoelectric conversion units (11), color filters (60) which are formed above each of the plurality of optical waveguide paths (30), and partitions (50) which separate the adjacent color filters (60). Each of the plurality of optical waveguide paths (30) further comprises an embedded part (30c) which is embedded in the inter-layer insulating film (20), and a protrusion part (30b) which is formed protruding from the inter-layer insulating film (20). The protrusion part (30b) covers the upper face of the embedded part (30c) and the periphery of the embedded part (30c) in the inter-layer insulating film (20) in plan view.
(FR)Le dispositif de capture d'image à l'état solide (100) selon la présente invention comprend un substrat semi-conducteur (10), une pluralité d'unités de conversion photoélectrique (11) qui sont formées en une matrice sur le substrat semi-conducteur (10), un pellicule isolante intercouche (20) qui est formée sur le substrat semi-conducteur (10), des chemins de guides d'ondes optiques (30) qui sont formés au-dessus de chaque élément de la pluralité d'unités de conversion photoélectrique (11), des filtres de couleur (60) qui sont formés au-dessus de chaque élément de la pluralité de chemins de guides d'ondes optiques (30), et des partitions (50) qui séparent les filtres de couleur (60) adjacents. Chaque élément de la pluralité de chemins de guides d'ondes optiques (30) comprend en outre une partie incorporée (30c) qui est incorporée dans la pellicule isolante intercouche (20), et une partie en saillie (30b) qui est formée en saillie depuis la pellicule isolante intercouche (20). La partie en saillie (30b) recouvre la face supérieure de la partie incorporée (30c) et la périphérie de la partie incorporée (30c) dans la pellicule isolante intercouche (20) bien en vue.
(JA) 本発明に係る固体撮像装置(100)は、半導体基板(10)と、半導体基板(10)に行列状に形成された複数の光電変換部(11)と、半導体基板(10)の上に形成された層間絶縁膜(20)と、複数の光電変換部(11)それぞれの上方に形成された光導波路(30)と、複数の光導波路(30)それぞれの上方に形成されたカラーフィルタ(60)と、隣接するカラーフィルタ(60)を分離する隔壁(50)とを備え、複数の光導波路(30)のそれぞれは、層間絶縁膜(20)中に埋め込まれた埋め込み部(30c)と、層間絶縁膜(20)から突出して形成された突出部(30b)とを含み、突出部(30b)は、埋め込み部(30c)の上面、及び平面視したときに層間絶縁膜(20)における埋め込み部(30c)の周囲を被覆する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)