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1. (WO2013031878) 重合性単量体、重合体およびそれを用いたレジストならびにそのパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/031878    国際出願番号:    PCT/JP2012/071966
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 30.08.2012
IPC:
C08F 20/10 (2006.01), C07C 69/54 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OOMURO, Hitoshi; (米国のみ).
SUMIDA, Shinichi; (米国のみ)
発明者: OOMURO, Hitoshi; .
SUMIDA, Shinichi;
代理人: KOBAYASHI, Hiromichi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
優先権情報:
2011-191202 02.09.2011 JP
発明の名称: (EN) POLYMERIZABLE MONOMER, POLYMER, RESIST USING SAME, AND PATTERN FORMING METHOD THEREFOR
(FR) MONOMÈRE POLYMÉRISABLE, POLYMÈRE, RÉSERVE L'UTILISANT, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ASSOCIÉ
(JA) 重合性単量体、重合体およびそれを用いたレジストならびにそのパターン形成方法
要約: front page image
(EN)[Problem] The present invention addresses the problem of providing a novel acid-decomposable polymerizable monomer that is useful as a highly sensitive chemically amplified resist, as well as a polymer that is polymerized or copolymerized using the same, a resist using the same, and a pattern forming method therefor. [Solution] A polymerizable monomer represented by general formula (1), and a polymer thereof. (In formula (1), R1 is a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group; and R2 to R14 are each independently a hydrogen atom or a C1-20 linear-chain, C3-20 branched-chain, or C3-20 cyclic hydrocarbon group, where some of the carbon atoms of the hydrocarbon group are optionally substituted with oxygen atoms, and some or all of the hydrogen atoms thereof are optionally substituted with fluorine atoms. Some or all of R5 to R14 may be bonded to form a cyclic structure, and n is an integer 0 to 5.)
(FR)L'objectif de cette invention est de pourvoir à un nouveau monomère polymérisable, décomposable par des acides, qui est utile à titre de réserve chimiquement amplifiée très sensible, ainsi qu'à un polymère qui est polymérisé ou copolymérisé à l'aide de celui-ci, à une réserve l'utilisant, et à un procédé de formation de motif associé. Pour ce faire, la présente invention propose un monomère polymérisable représenté par la formule générale (1), et un polymère l'utilisant. (Dans la formule (1), R1 est un atome d'hydrogène, un groupe méthyle, un atome de fluor, ou un groupe trifluoro- méthyle ; et R2 à R14 sont chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarbure C1-20 à chaîne linéaire, C3-20 à chaîne ramifiée, ou C3-20 cyclique, certains des atomes de carbone dudit groupe hydrocarbure étant éventuellement substitués par des atomes de fluor. Certains ou tous les R5 à R14 peuvent être liés pour former une structure cyclique, et n est un entier de 0 à 5).
(JA)【課題】高感度な化学増幅型レジストとして有用な新規な酸分解性をもつ重合性単量体、これを用いて重合または共重合された重合体、およびそれを用いたレジストおよびそのパターン形成方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 下記一般式(1)で表される重合性単量体、およびその重合体。 (式(1)中、R1は水素原子、メチル基、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基であり、R2~R14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~20の直鎖状、炭素数3~20の分岐鎖状または炭素数3~20の環状の炭化水素基であり、当該炭化水素基は、炭素原子の一部が酸素原子に置換されていてもよく、水素原子の一部または全てがフッ素原子に置換されていてもよい。また、R5~R14の一部または全部が結合して環状構造を形成していてもよい。nは0~5の整数である。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)