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1. (WO2013031692) 研磨パッド
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/031692    国際出願番号:    PCT/JP2012/071472
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 24.08.2012
IPC:
B24B 37/22 (2012.01), B24B 37/013 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD. [JP/JP]; 17-18, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508661 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIMURA,Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIMURA,Tsuyoshi; (JP)
代理人: UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1, 13-9, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011 (JP)
優先権情報:
2011-190859 01.09.2011 JP
発明の名称: (EN) POLISHING PAD
(FR) TAMPON À POLIR
(JA) 研磨パッド
要約: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a polishing pad capable of preventing slurry leakage while having excellent optical detection precision. This polishing pad is characterized in that a polishing area, a cushion layer, and a support film are layered in the stated order, and an optically transparent region is provided on the support film, in an aperture that passes through the polishing area and cushion layer. The optically transparent area has a peripheral part and a recessed part in the polishing table-side surface. The support film is layered on the peripheral part, but the support film is not layered on the recessed part, which remains open.
(FR)La présente invention aborde le problème de la fourniture d'un tampon à polir qui est en mesure d'empêcher la fuite de bouillie tout en présentant une excellente précision de détection optique. Le tampon à polir selon la présente invention est caractérisé en ce qu'une zone de polissage, une couche d'amortissement et un film de support sont disposés en couches dans l'ordre indiqué, et en ce qu'une région transparente d'un point de vue optique est prévue sur le film de support, dans une ouverture qui passe par la zone de polissage et la couche d'amortissement. La zone transparente d'un point de vue optique est dotée d'une partie périphérique et d'une partie en retrait dans la surface côté table de polissage. Le film de support est disposé en couches sur la partie périphérique, mais il n'est pas disposé en couches sur la partie en retrait, qui demeure ouverte.
(JA) 本発明は、スラリー漏れを防止することができ、かつ光学的検知精度に優れる研磨パッドを提供することを目的とする。本発明の研磨パッドは、研磨領域、クッション層、及び支持フィルムがこの順に積層されており、研磨領域及びクッション層を貫く開口部内かつ支持フィルム上に光透過領域が設けられており、前記光透過領域は、研磨定盤側の表面に、周囲部とくぼみ部とを有しており、前記周囲部には支持フィルムが積層されており、前記くぼみ部には支持フィルムが積層されておらず開口していることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)