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1. (WO2013031686) ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/031686    国際出願番号:    PCT/JP2012/071451
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 24.08.2012
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUCHIMURA Tomotaka; (米国のみ).
INASAKI Takeshi; (米国のみ)
発明者: TSUCHIMURA Tomotaka; .
INASAKI Takeshi;
代理人: TAKAMATSU Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2011-191955 02.09.2011 JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING SAME, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PHOTOMASK
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE NÉGATIVE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AUX RAYONNEMENTS, FILM DE RÉSERVE L'UTILISANT, DÉCOUPE DE MASQUE REVÊTUE DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE RÉSERVE ET MASQUE PHOTOGRAPHIQUE
(JA) ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク
要約: front page image
(EN)Provided, as a negative active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is capable of forming a pattern that has excellent sensitivity, resolution and pattern shape, while being reduced in line edge roughness (LER), scum and development defects, is a negative active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition which contains (A) a polymer compound which has (a) a repeating unit that generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a repeating unit that has a phenolic hydroxyl group, and (B) a crosslinking agent.
(FR)L'invention concerne une composition de résine négative sensible à la lumière active ou aux rayonnements, qui peut former un motif caractérisé par une sensibilité, une résolution et une forme de motif excellentes, tout en présentant une réduction de la rugosité des bords de tracé (LER), du voile et des défauts de développement. Il s'agit d'une composition de résine négative sensible à la lumière active ou aux rayonnements, qui contient (A) un composé polymère comprenant (a) une unité structurale répétée qui génère un acide lorsqu'elle est irradiée par une lumière active ou un rayonnement et (b) une unité structurale répétée qui comprend un groupe hydroxyle phénolique, et (B) un agent de réticulation.
(JA) 感度、解像力及びパターン形状に優れ、ラインエッジラフネス(LER)、スカム及び現像欠陥が低減されたパターンを形成できるネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物として(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(a)、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位(b)を有する高分子化合物、並びに、(B)架橋剤を含有する、ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)