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1. (WO2013031542) 機能性フィルムの製造方法および機能性フィルム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/031542    国際出願番号:    PCT/JP2012/070789
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 16.08.2012
IPC:
B05D 5/00 (2006.01), B05D 1/26 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IWASE Eijirou [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IWASE Eijirou; (JP)
代理人: WATANABE Mochitoshi; Yusen Iwamoto-cho Bldg. 6F., 3-3, Iwamoto-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
優先権情報:
2011-188736 31.08.2011 JP
発明の名称: (EN) FUNCTIONAL FILM MANUFACTURING METHOD AND FUNCTIONAL FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM TECHNIQUE ET FILM TECHNIQUE
(JA) 機能性フィルムの製造方法および機能性フィルム
要約: front page image
(EN)The present invention relates to a high-performance functional film, such as a gas barrier film with a high gas barrier performance, which uses an inexpensive support and is manufactured at a low cost and a high productivity. According to the functional film of the present invention which is formed by laminating a coating-based organic layer and an inorganic layer based on a vapor phase deposition method, a glass transition temperature of the organic layer is at least 100°C, and a thickness thereof is between 0.05μm and 3μm. The organic layer is coated with at least 5cc/m2 of a coating material, and formed for a viscosity in a falling-rate drying state to be at least 20cP and for a surface tension to be 34dyn/cm or less. The inorganic layer is formed at a surface of the organic layer by a vapor phase film formation method for plasma generation.
(FR)Cette invention concerne un film technique à haute performance, tel qu'un film barrière aux gaz présentant une haute performance de barrière aux gaz, fabriqué à faible coût et à haute productivité et mettant en œuvre un support peu coûteux. Le film technique selon l'invention est formé par stratification d'une couche organique du type enduit et d'une couche inorganique du type déposé en phase vapeur. La température de transition vitreuse de la couche organique est supérieure ou égale à 100°C, et son épaisseur va de 0,05 à 3 μm. La couche organique est formée par enduction d'un enduit à raison de 5 cm3/m2 au minimum, et de façon à présenter une viscosité supérieure à 20 cP en période de séchage à vitesse décroissante et une tension superficielle inférieure ou égale à 34 dyn/cm. La couche inorganique est formée sur une surface de la couche organique par procédé de formation de film par dépôt en phase vapeur pour la génération d'un plasma.
(JA) 安価な支持体を用いて、低コストかつ高い生産性で、高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムなど、高性能な機能性フィルムを提供することを課題とする。 塗布による有機層と、気相堆積法による無機層とを積層してなる機能性フィルムにおいて、有機層のガラス転移温度が100℃以上、厚さが0.05~3μmであり、かつ、この有機層を、塗料を5cc/m2以上の塗布量で塗布して、減率乾燥状態での粘度が20cP以上、表面張力が34dyn/cm以下となる条件で形成し、この有機層の表面に、プラズマの生成を伴う気相成膜法によって無機層を形成することにより、前記課題を解決する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)