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1. (WO2013031445) 表面形状計測装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/031445    国際出願番号:    PCT/JP2012/069076
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 27.07.2012
G01B 11/30 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ITO Masaaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
JINGU Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HATANO Hisashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ITO Masaaki; (JP).
JINGU Takahiro; (JP).
HATANO Hisashi; (JP)
代理人: INOUE Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
2011-188164 31.08.2011 JP
(JA) 表面形状計測装置
要約: front page image
(EN)In the prior art, no consideration was given to change in the spatial distribution of scattered light in various directions such as forwards/rearwards/sideways, with differences in surface roughness. In particular, although a step/terrace structure that appears in an epitaxially grown wafer produces anisotropy in the distribution of the scattered light, no consideration was given regarding this aspect in the prior art. According to the invention, light is directed onto a sample surface, and the spatial distribution of the scattered light is detected by a plurality of detection optical systems with their optic axes in mutually different directions, and processing is included for calculating the spatial frequency spectrum of the sample surface.
(FR)Dans l'état de la technique, on ne tenait pas compte d'une modification de la répartition spatiale d'une lumière diffusée dans diverses directions telles que l'avant, l'arrière, les côtés, dues à des différences de rugosité de surface. En particulier, bien qu'une structure à gradins/terrasses qui apparaît dans une tranche à croissance épitaxiale produisît une anisotropie dans la répartition de la lumière diffusée, on ne tenait pas compte de cet aspect dans l'état de la technique. Selon l'invention, la lumière est dirigée sur une surface échantillon et la répartition spatiale de la lumière diffusée est détectée par une pluralité de systèmes optiques de détection dont les axes optiques sont dans des directions mutuellement différentes, et un traitement permettant de calculer le spectre fréquentiel spatial de la surface échantillon est inclus.
(JA) 従来技術では、散乱光の空間分布はマイクロラフネスの差異に応じて、前方/後方/側方と色々な方向に変化することについては、配慮がなされていない。特に、エピタキシャル成長ウェハに出現するステップ・テラス構造は散乱光分布に異方性が生じるが、従来技術では、この点に関する配慮がなされていない。 本発明は、試料表面に光を照明し、光軸の方向が互いに異なる複数の検出光学系により散乱光の空間分布を検出し、試料表面の空間周波数スペクトルを算出する処理を含むことを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)