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1. (WO2013031430) 熱処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2013/031430 国際出願番号: PCT/JP2012/068616
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 23.07.2012
IPC:
H01L 21/205 (2006.01) ,H01L 21/324 (2006.01)
出願人: NAKAO Ken[JP/JP]; JP (UsOnly)
MORISAKI Eisuke[JP/JP]; JP (UsOnly)
TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP (AllExceptUS)
発明者: NAKAO Ken; JP
MORISAKI Eisuke; JP
代理人: TAKAYAMA Hiroshi; Daisan Inoue Bldg. 3F, 5-8-1, Futago, Takatsu-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2130002, JP
優先権情報:
2011-19190002.09.2011JP
発明の名称: (EN) HEAT TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE
(JA) 熱処理装置
要約: front page image
(EN) A heat treatment device (1) is provided with: a treatment container (2) for accommodating a plurality of substrates (S) subjected to a heat treatment; a substrate-holding member (3) for holding the plurality of substrates inside the treatment container (2); an induction heating coil (15) for forming an inductive loop inside the treatment container (2) and performing induction heating; a high-frequency power supply (16) for impressing high-frequency electric power to the induction heating coil (15); a gas-supply mechanism (8, 9, 10) for supplying treatment gas to the inside the treatment container (2); an exhaust mechanism (11, 12, 14) for exhausting the inside of the treatment container (2); and an inductive-heat-radiating element (7) provided between the induction heating coil (15) and the substrate-holding member (3) so as to enclose the substrate-holding member (3) inside the treatment container (2), heat being radiated by an inductive electric current formed by the inductive loop, and the substrate (S) held by the substrate-holding member (3) being heated by the radiated heat. The flow of inductive electric current to the substrate (S) is blocked by the inductive-heat-radiating element (7).
(FR) Un dispositif de traitement thermique (1) comporte : un contenant de traitement (2) destiné à contenir une pluralité de substrats (S) soumis à un traitement thermique ; un élément de maintien de substrats (3) servant à maintenir la pluralité de substrats dans ledit contenant de traitement (2) ; une bobine de chauffage par induction (15) permettant de former une boucle d'induction dans le contenant de traitement (2) et de réaliser un chauffage par induction ; une alimentation électrique haute fréquence (16) conçue pour appliquer un courant électrique haute fréquence sur ladite bobine de chauffage par induction (15) ; un mécanisme d'alimentation en gaz (8, 9, 10) prévu pour alimenter en gaz de traitement l'intérieur du contenant de traitement (2) ; un mécanisme de vidage (11, 12, 14) destiné à vider l'intérieur du contenant de traitement (2) ; et un élément (7) rayonnant de la chaleur par induction installé entre la bobine de chauffage par induction (15) et ledit élément de maintien de substrats (3) afin d'enfermer cet élément de maintien de substrats (3) dans ledit contenant de traitement (2), la chaleur étant rayonnée par un courant électrique inductif créé par ladite boucle d'induction, et le substrat (S) qui est maintenu par l'élément de maintien de substrats (3) étant chauffé par la chaleur rayonnée. La circulation du courant électrique inductif vers le substrat (S) est bloquée par ledit élément (7) rayonnant de la chaleur par induction.
(JA)  熱処理装置(1)は、熱処理が施される複数の基板(S)を収容する処理容器(2)と、処理容器(2)内で複数の基板を保持する基板保持部材(3)と、処理容器(2)内に誘導磁界を形成して誘導加熱するための誘導加熱コイル(15)と、誘導加熱コイル(15)に高周波電力を印加する高周波電源(16)と処理容器(2)内に処理ガスを供給するガス供給機構(8,9,10)と、処理容器(2)内を排気する排気機構(11,12,14)と、処理容器(2)内で基板保持部材(3)を囲うように誘導加熱コイル(15)と基板保持部材(3)との間に設けられ、誘導磁界によって形成された誘導電流により加熱され、その輻射熱で基板保持部材(3)に保持された基板(S)を加熱する誘導発熱体(7)とを具備する。誘導発熱体(7)により、基板(S)へ誘導電流が流れることが阻止される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)