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1. (WO2013031235) 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/031235    国際出願番号:    PCT/JP2012/005529
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 31.08.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIRATO, Akinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIRATO, Akinori; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
優先権情報:
2011-191211 02.09.2011 JP
発明の名称: (EN) ALIGNING METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY
(FR) PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉCRAN PLAT
(JA) 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
要約: front page image
(EN)At the time of forming a plurality of demarcated regions (SA1, SA2 and the like) on a substrate (P), the substrate (P) is step-moved within a plane parallel to a surface of the substrate (P) each time each of the demarcated regions is formed on the substrate (P), and before and after the step-move, positional information of a same substrate (P) portion to be detected (for instance, an edge) is detected using, for instance, a plurality of sensors (122X1, 122X2, 122Y1), then, on the basis of detection results, the substrate (P) is aligned with an exposure region (IA) at the time of forming each of the demarcated regions.
(FR)Lors de la formation d'une pluralité de régions délimitées (SA1, SA2 et autres) sur un substrat (P), le substrat (P) se déplace par étapes dans un plan parallèle à l'une de ses surfaces chaque fois qu'une des régions délimitées est formée sur ce substrat (P). Avant et après le déplacement par étapes, des informations de position d'une même partie de substrat (P) devant être détectée (par exemple un bord) sont détectées à l'aide, par exemple, d'une pluralité de capteurs (122X1, 122X2, 122Y1). Ensuite, sur la base des résultats de détection, ledit substrat (P) est aligné sur une région d'exposition (IA) au moment de la formation de chacune des régions délimitées.
(JA) 基板(P)上に複数の区画領域(SA1、SA2等)を形成するに当たり、基板(P)上に区画領域を形成する度毎に、基板(P)を該基板(P)の面に平行な面内でステップ移動し、該ステップ移動の前後で、基板(P)の同一の検出対象部(例えばエッジ)の位置情報を例えば複数のセンサ(122X、122X、122Y)を用いて検出し、その検出結果に基づいて、区画領域の形成の際に、基板(P)を露光領域(IA)に対して位置合わせする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)