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1. (WO2013031221) 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2013/031221 国際出願番号: PCT/JP2012/005462
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 30.08.2012
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
出願人: AOKI, Yasuo[JP/JP]; JP (UsOnly)
NIKON CORPORATION[JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
発明者: AOKI, Yasuo; JP
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035, JP
優先権情報:
2011-18777730.08.2011JP
発明の名称: (EN) MOBILE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
(FR) DISPOSITIF MOBILE, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉCRAN PLAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN) A substrate stage device (20) is provided with: an X-beam (24) capable of moving in the Y-axis direction; a coarse stage (26) provided on the X-beam (24), capable of moving with the X-beam (24) in the Y-axis direction, and capable of moving in the X-axis direction relative to the X-beam (24); a fine stage (28) for supporting a substrate (P), and, when guided by the coarse stage (26), moving in the direction of the X-axis and/or the Y-axis; and a pair of step guides (30) that are respectively positioned on the +Y side and the -Y side of the X-beam (24), support the +Y-side and the -Y-side regions of the fine stage (28) from below, and are capable of moving with the fine stage (28) in the Y-axis direction.
(FR) L'invention concerne un dispositif (20) de plateau pour substrat, lequel comporte: un cylindre X (24) pouvant se déplacer en direction d'un axe Y; un plateau (26) de mouvement approximatif situé sur le cylindre X (24) et pouvant se déplacer en direction de l'axe Y avec ce cylindre X, et pouvant également se déplacer dans une direction X par rapport au cylindre X (24); un plateau (28) de micromouvement maintenant un substrat (P) et pouvant, guidé par le plateau (26) de mouvement approximatif, se déplacer en direction de l'axe X et/ou de l'axe Y; une paire de guides (30) de pas, situés respectivement côté +Y et côté -Y du cylindre X (24), ces guides soutenant depuis le bas les régions côté +Y et -Y du plateau (28) de micromouvement et pouvant se déplacer en direction de l'axe Y avec le plateau (28) de micromouvement.
(JA)  基板ステージ装置(20)は、Y軸方向に移動可能なXビーム(24)と、Xビーム(24)に設けられ、該Xビーム(24)と共にY軸方向に移動可能、且つXビーム(24)に対してX軸方向に移動可能な粗動ステージ(26)と、基板(P)を保持し、粗動ステージ(26)に誘導されてX軸及び/又はY軸方向に移動する微動ステージ(28)と、Xビーム(24)の+Y側、及び-Y側にそれぞれ配置され、微動ステージ(28)の+Y側、及び-Y側の領域を下方から支持すると共に、該微動ステージ(28)と共にY軸方向に移動可能な一対のステップガイド(30)を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)