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1. (WO2013030872) 真空成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2013/030872    国際出願番号:    PCT/JP2011/004819
国際公開日: 07.03.2013 国際出願日: 30.08.2011
IPC:
C23C 14/24 (2006.01)
出願人: SHINMAYWA INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1-1, Shinmeiwa-cho, Takarazuka-shi, Hyogo 6658550 (JP) (米国を除く全ての指定国).
AMAKU, Hayato; (米国のみ)
発明者: AMAKU, Hayato;
代理人: PATENT CORPORATE BODY ARCO PATENT OFFICE; 3rd Fl., Bo-eki Bldg., 123-1 Higashimachi, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500031 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) VACUUM FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILMS SOUS VIDE
(JA) 真空成膜装置
要約: front page image
(EN)This vacuum film formation device (100) forms a plurality of substrates (20) in a vacuum state, and comprises: a plurality of substrate holders (23) for supporting a substrate; a substrate unit (2) for supporting and conveying the plurality of substrate holders (23); and a vacuum chamber (1) for forming a vacuum state, the vacuum chamber having a conveyance entrance (10) via which the substrate unit (2) is conveyed in and out, and a conveyance entrance door (11) for opening and closing the conveyance entrance (10). The substrate unit (2) supports the plurality of substrate holders (23) so as to be arranged in-line with the conveyance direction in relation to the vacuum chamber (1), and the conveyance entrance (10) is formed in accordance with the dimensions of the substrate unit (2). The vacuum film formation device (100) can thereby reduce the time required to discharge moisture and minimize the time required for the film formation process.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de formation de films sous vide (100), qui forme une pluralité de substrats (20) sous vide. Ce dispositif comprend: une pluralité de supports à substrat (23) conçus pour supporter un substrat; une unité à substrats (2) conçue pour supporter et transporter la pluralité de supports à substrat (23); et une chambre à vide (1) conçue pour réaliser le vide. La chambre à vide comprend une entrée de transport (10) au travers de laquelle entre et sort l'unité à substrats (2), et une porte d'entrée de transport (11) permettant d'ouvrir et fermer l'entrée de transport (10). L'unité à substrats (2) supporte la pluralité de supports à substrats (23) de façon qu'ils se présentent dans l'alignement de l'axe de transport par rapport à la chambre à vide (1), l'entrée de transport (10) étant réalisée en tenant compte des dimensions de l'unité à substrats (2). Le dispositif de formation de films sous vide (100) selon l'invention permet ainsi, non seulement de réduire le temps nécessaire pour éliminer l'eau résiduelle, mais aussi de ramener à un minimum le temps nécessaire au traitement de formation du film.
(JA) 本発明の真空成膜装置(100)は、真空状態で複数の基材(20)を成膜する成膜装置であり、基材を支持するための複数の基材ホルダ(23)と、複数の基材ホルダ(23)を支持して搬送する基材ユニット(2)と、この基材ユニット(2)を搬入および搬出するための搬入口(10)、およびこの搬入口(10)を開閉するための搬入口ドア(11)を有する、真空状態を形成するための真空槽(1)と、を備える。基材ユニット(2)は、複数の基材ホルダ(23)を、真空槽(1)に対する搬送方向に直列に配置するように支持しており、搬入口(10)が、基材ユニット(2)の寸法に応じて形成されている。これにより、真空成膜装置(100)は、水分の排気に要する時間を低減させ成膜処理にかかる時間を抑制することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)