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1. WO2013015121 - 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法

公開番号 WO/2013/015121
公開日 31.01.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/067741
国際出願日 11.07.2012
IPC
G03F 7/035 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032結合剤をもつもの
035結合剤がポリウレタンであるもの
C08G 18/32 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06活性水素を有する化合物との
28活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
30低分子量化合物
32ポリヒドロキシ化合物;ポリアミン;ヒドロキシアミン
C08G 63/12 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
63高分子の主鎖にカルボン酸エステル連結基を形成する反応によって得られる高分子化合物
02ヒドロキシカルボン酸からまたはポリカルボン酸およびポリヒドロキシ化合物から誘導されるポリエステル
12ポリカルボン酸およびポリヒドロキシ化合物とから誘導されるもの
G03F 7/00 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/032 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032結合剤をもつもの
CPC
B41C 1/1008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
1Forme preparation
10for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
1008by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
B41C 2210/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
B41C 2210/06
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
06Developable by an alkaline solution
B41C 2210/266
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
26characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
266Polyurethanes; Polyureas
C08G 18/0823
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
18Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
06with compounds having active hydrogen
08Processes
0804Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups
0819containing anionic or anionogenic groups
0823containing carboxylate salt groups or groups forming them
C08G 18/282
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
18Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
06with compounds having active hydrogen
28characterised by the compounds used containing active hydrogen
2805Compounds having only one group containing active hydrogen
2815Monohydroxy compounds
282Alkanols, cycloalkanols or arylalkanols including terpenealcohols
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 田口 貴規 TAGUCHI, Yoshinori [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 有冨 隆志 ARIDOMI, Takashi [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 田口 貴規 TAGUCHI, Yoshinori
  • 有冨 隆志 ARIDOMI, Takashi
代理人
  • 中島 淳 NAKAJIMA, Jun
優先権情報
2011-16477827.07.2011JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, MASTER PLATE FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE, POLYURETHANE, AND METHOD FOR PRODUCING POLYURETHANE
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, PLAQUE MAÎTRE POUR UNE PLAQUE D'IMPRESSION PLANOGRAPHIQUE, POLYURÉTHANE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POLYURÉTHANE
(JA) 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法
要約
(EN)
A photosensitive composition comprising (A) a polyurethane produced by reacting a diol component comprising a compound represented by general formula (I) with a polyisocyanate component and (B) a photosensitive component. In general formula (I), A represents a single bond or a bivalent linking group containing an atom selected from a carbon atom, a hydrogen atom and an oxygen atom; B represents a monovalent organic group; R1 to R5 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group; and m represents an integer of 0 to 3 and n represents an integer of 0 to 3, wherein m+n is not 0.
(FR)
L'invention porte sur une composition photosensible comprenant (A) un polyuréthane obtenu par réaction d'un composant diol comprenant un composé représenté par la formule générale (I) avec un composant polyisocyanate et (B) un composant photosensible. Dans la formule générale (I), A représente une liaison simple ou un groupe de liaison bivalent contenant un atome choisi parmi un atome de carbone, un atome d'hydrogène et un atome d'oxygène ; B représente un groupe organique monovalent ; R1 à R5 représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ; et m représente un entier de 0 à 3 et n représente un entier de 0 à 3, m+n n'étant pas 0.
(JA)
 (A)下記一般式(I)で表される化合物を含むジオール成分とポリイソシアネート成分とを反応させて得られるポリウレタン、及び(B)感光性成分を含有する感光性組成物である。一般式(I)中、Aは単結合又は炭素原子、水素原子、及び酸素原子から選ばれた原子を含んで構成される2価の連結基を表し、Bは一価の有機基を表す。R~Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。mは0~3の整数を表し、nは0~3の整数を表し、m+nが0となることはない。
他の公開
関連公開情報:
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