処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2013008896 - 積層膜付きガラス基板の製造方法

公開番号 WO/2013/008896
公開日 17.01.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/067867
国際出願日 12.07.2012
IPC
C03C 17/245 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
22他の無機物によるもの
23酸化物
245蒸気相からの析出によるもの
C03B 25/08 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Bガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
25ガラス製品の徐冷
04連続的
06ガラス成形品が水平に移動するもの
08板ガラスが水平に移動するもの
C03C 17/34 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34組成の異なる少くとも2種の被覆を有するもの
C23C 16/40 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
40酸化物
H01L 31/04 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04光起電変換装置として使用されるもの
CPC
C03B 25/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
25Annealing glass products
04in a continuous way
06with horizontal displacement of the glass products
08of glass sheets
C03C 17/002
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
001General methods for coating; Devices therefor
002for flat glass, e.g. float glass
C03C 17/2456
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
22with other inorganic material
23Oxides
245by deposition from the vapour phase
2456Coating containing TiO2
C03C 2218/1525
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2218Methods for coating glass
10Deposition methods
15from the vapour phase
152by cvd
1525by atmospheric CVD
C23C 16/402
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
40Oxides
401containing silicon
402Silicon dioxide
C23C 16/405
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
40Oxides
405of refractory metals or yttrium
出願人
  • 旭硝子株式会社 Asahi Glass Company, Limited [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 廣松 邦明 HIROMATSU Kuniaki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 白井 正信 SHIRAI Masanobu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 宮下 純一 MIYASHITA Junichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 米道 友広 YONEMICHI Tomohiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 遠藤 健朗 ENDO Takeo [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 廣松 邦明 HIROMATSU Kuniaki
  • 白井 正信 SHIRAI Masanobu
  • 宮下 純一 MIYASHITA Junichi
  • 米道 友広 YONEMICHI Tomohiro
  • 遠藤 健朗 ENDO Takeo
代理人
  • 濱田 百合子 HAMADA Yuriko
優先権情報
2011-15431512.07.2011JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR MANUFACTURING LAYERED-FILM-BEARING GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE VERRE PORTANT UN FILM EN COUCHES
(JA) 積層膜付きガラス基板の製造方法
要約
(EN)
A method for manufacturing a layered-film-bearing glass substrate wherein a plurality of injectors provided in an annealing lehr are used to form a layered film on a glass ribbon via CVD. Said layered film is formed at a temperature less than or equal to Tg+50°C, and for each injector, the quantity of heat (Q1, in kW) exchanged between the glass ribbon and said injector, the quantity of heat (Q2, in kW) exchanged between the glass ribbon and a heater paired with said injector, and the flow rate (P, in ton/day) of the glass satisfy the relation |Q1| − P×0.116 ≤ |Q2| ≤ |Q1|.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de verre portant un film en couches selon lequel une pluralité d'injecteurs prévus dans une galerie de recuisson sont utilisés pour former un film en couches sur un ruban de verre par dépôt chimique en phase vapeur. Ledit film en couches est formé à une température inférieure ou égale à Tg+50 °C, et pour chaque injecteur, la quantité de chaleur (Q1, en kW) échangée entre le ruban de verre et ledit injecteur, la quantité de chaleur (Q2, en kW) échangée entre le ruban de verre et un réchauffeur apparié avec ledit injecteur, et le débit (P, en tonne/jour) du verre satisfont à la relation |Q1| − P×0.116 ≤ |Q2| ≤ |Q1|.
(JA)
 CVD法により徐冷炉内に設けられた複数のインジェクターでガラスリボン上に積層膜を形成する積層膜付きガラス基板の製造方法であって、積層膜はTg+50℃以下で形成され、各インジェクターにおいて、該インジェクターとガラスリボンとの交換熱量をQ1(kW)、該インジェクターと対となるヒーターとガラスリボンとの交換熱量をQ2(kW)、ガラスの流量をP(ton/day)とすると、|Q1|-P×0.116≦|Q2|≦|Q1|の関係式が成り立つ。
関連公開情報:
国際事務局に記録されている最新の書誌情報