処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2013005680 - フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法

公開番号 WO/2013/005680
公開日 10.01.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/066738
国際出願日 29.06.2012
IPC
C03C 3/091 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3ガラスの組成物
04シリカを含むもの
076重量比で40%から90%シリカを有するもの
089ほう素を含むもの
091アルミニウムを含むもの
G02F 1/1333 2006.01
G物理学
02光学
F光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333構造配置
CPC
C03B 25/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
25Annealing glass products
C03C 3/091
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
089containing boron
091containing aluminium
出願人
  • AvanStrate株式会社 AvanStrate Inc. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 小山 昭浩 KOYAMA, Akihiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 阿美 諭 AMI, Satoshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 市川 学 ICHIKAWA, Manabu [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 小山 昭浩 KOYAMA, Akihiro
  • 阿美 諭 AMI, Satoshi
  • 市川 学 ICHIKAWA, Manabu
代理人
  • 特許業務法人特許事務所サイクス SIKs & Co.
優先権情報
2011-14776801.07.2011JP
2012-05923315.03.2012JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) GLASS SUBSTRATE FOR FLAT PANEL DISPLAY AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) SUBSTRAT DE VERRE POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE À ÉCRAN PLAT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
要約
(EN)
Provided are: a glass substrate for a p-Si TFT flat panel display, comprising a glass having a high low-viscosity characteristic temperature and capable of being produced while avoiding the occurrence of the issue of melting tank erosion loss during melting by direct ohmic heating; and a production method therefor. This glass substrate comprises 52%-78% by mass SiO2, 3%-25% by mass Al2O3, 3%-15% by mass B2O3, 3%-20% by mass RO (RO being the combined amount of MgO, CaO, SrO, and BaO), 0.01%-0.8% by mass R2O (R2O being the combined amount of Li2O, Na2O, and K2O), and 0%-0.3% by mass Sb2O3, does not substantially contain As2O3, and has a mass ratio for CaO/RO of at least 0.65, a mass ratio for (SiO2+Al2O3)/B2O3 of 7-30, and a mass ratio for (SiO2+Al2O3)/RO of at least 5. This production method for the glass substrate has: a melting step in which a glass raw material, prepared so as to form a glass composition, is melted using at least direct ohmic heating and a molten glass is obtained; a molding step in which the molten glass is molded into a planar glass; and a gradual cooling step in which the planar glass is gradually cooled.
(FR)
L'invention concerne un substrat de verre pour un dispositif d'affichage à écran plat TFT p-Si, comprenant un verre ayant une température caractéristique élevée à faible viscosité et apte à être obtenu tout en évitant l'apparition du problème de la perte par érosion du réservoir de fusion pendant la fusion par chauffage ohmique direct ; et un procédé de fabrication de ce substrat de verre. Ce dernier comprend 52 %-78 % en masse de SiO2, 3 %-25 % en masse d'Al2O3, 3 %-15 % en masse de B2O3, 3 %-20 % en masse de RO (RO étant la quantité combinée de MgO, CaO, SrO et BaO), 0,01 %-0,8 % en masse de R2O (R2O étant la quantité combinée de Li2O, Na2O et K2O) et 0 %-0,3 % en masse de Sb2O3, ne contient pratiquement pas d'As2O3 et a un rapport massique pour CaO/RO d'au moins 0,65, un rapport massique pour (SiO2+Al2O3)/B2O3 de 7-30 et un rapport massique pour (SiO2+Al2O3)/RO d'au moins 5. Ce procédé de fabrication pour le substrat de verre possède : une étape de fusion dans laquelle une matière première de verre, préparée de façon à former une composition de verre, est fondue à l'aide d'au moins un chauffage ohmique direct et un verre fondu est obtenu ; une étape de fusion dans laquelle le verre fondu est moulé en un verre plat ; et une étape de refroidissement progressif dans lequel le verre plat est progressivement refroidi.
(JA)
本発明は、低粘特性温度が高く、かつ直接通電加熱による熔解において熔解槽熔損の問題の発生を回避しつつ製造が可能であるガラスからなる、p-Si・TFTフラットパネルディスプレイ用ガラス基板とその製造方法を提供する。本発明のガラス基板は、SiO2 52~78質量%、Al2O3 3~25質量%、B2O33~15質量%、RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量) 3~20質量%、R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量)0.01~0.8質量%、Sb2O3 0~0.3質量%、を含有し、As2O3は実質的に含有せず、質量比CaO/ROは0.65以上であり、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7~30の範囲であり、かつ質量比(SiO2+Al2O3)/ROは5以上である。本発明のガラス基板の製造方法は、上記ガラス組成となるように調合したガラス原料を少なくとも直接通電加熱を用いて熔解して熔融ガラスを得る熔解工程と、前記熔融ガラスを平板状ガラスに成形する成形工程と、前記平板状ガラスを徐冷する徐冷工程と、を有する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報