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1. WO2013001955 - 光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他

公開番号 WO/2013/001955
公開日 03.01.2013
国際出願番号 PCT/JP2012/063588
国際出願日 28.05.2012
IPC
G01B 11/06 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
02長さ,幅または厚み測定用
06厚み測定用
G01N 21/27 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
17調査される材料の特性に応じて入射光が変調されるシステム
25色;スペクトル特性,すなわち2またはそれ以上の波長あるいは波長帯において材料が光に与える効果の比較
27光電検出器を用いるもの
G01N 33/543 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
33グループG01N1/00~G01N31/00に包含されない,特有な方法による材料の調査または分析
48生物学的材料,例.血液,尿;血球計
50生物学的材料,例.血液,尿,の化学分析;生物学的特異性を有する配位子結合方法を含む試験;免疫学的試験
53免疫分析;生物学的特異的結合分析;そのための物質
543免疫化学物質を固定化するための不溶性担体によるもの
CPC
G01B 11/0675
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
06for measuring thickness, e.g. of sheet material
0616of coating
0675using interferometry
G01N 2021/7779
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
75Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
77by observing the effect on a chemical indicator
7769Measurement method of reaction-produced change in sensor
7779interferometric
G01N 21/77
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
75Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
77by observing the effect on a chemical indicator
出願人
  • コニカミノルタ株式会社 Konica Minolta, Inc. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 泉谷 直幹 IZUMIYA, Naoki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 柏崎 治 KASHIWAZAKI, Osamu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 新 勇一 ATARASHI, Yuichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 関矢 忠宣 SEKIYA, Tadanobu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 吉原 由佳 YOSHIHARA, Yuka [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 泉谷 直幹 IZUMIYA, Naoki
  • 柏崎 治 KASHIWAZAKI, Osamu
  • 新 勇一 ATARASHI, Yuichi
  • 関矢 忠宣 SEKIYA, Tadanobu
  • 吉原 由佳 YOSHIHARA, Yuka
代理人
  • 特許業務法人光陽国際特許事務所 KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM
優先権情報
2011-14134827.06.2011JP
2012-00109506.01.2012JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) OPTICAL FILM THICKNESS MEASUREMENT METHOD, OPTICAL FILM THICKNESS MEASUREMENT SYSTEM, OPTICAL FILM THICKNESS MEASUREMENT PROGRAM, AND SO ON
(FR) PROCÉDÉ, SYSTÈME ET PROGRAMME DE MESURE DE L'ÉPAISSEUR D'UN FILM OPTIQUE, ET AINSI DE SUITE
(JA) 光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他
要約
(EN)
The present invention addresses the problem of measuring the optical film thickness of an interference film by reflection interference spectroscopy and, when there is a change in the optical film thickness of the interference film, measuring the amount of the change of the optical film thickness. In the measurement of the optical film thickness of an interference film in a laminate in which the interference film is laminated on a substrate by reflection interference spectroscopy, attention is paid to the tendency that as the optical film thickness of the interference film increases, the peak position of the spectral distribution of spectral reflectivity (or the change amount thereof) moves to the long wavelength side, for example, in the order of a curve (b1), a curve (b2), a curve (b3), and a curve (b4) and the number of peaks thereof increases, the relationship between a wavelength at which the optical film thickness of the interference film provides the extreme value of spectral reflectivity (or change amount) in a known laminate and the optical film thickness is created in advance for each of different optical film thicknesses, and the optical film thickness which provides an extreme value at an approximate wavelength is identified by applying, to the abovementioned relationship, a wavelength at which the extreme value of spectral reflectivity (or change amount) in the laminate to be measured obtained by the reflection interference spectroscopy is provided, thereby finding the optical film thickness of the interference film to be measured.
(FR)
La présente invention traite le problème de la mesure de l'épaisseur de film optique d'un film d'interférence par spectroscopie interférentielle à réflexion et, en cas de changement de l'épaisseur de film optique du film d'interférence, la mesure de la quantité de changement de ladite épaisseur. Dans la mesure de l'épaisseur de film optique d'un film d'interférence dans un stratifié où le film d'interférence est stratifié sur un substrat par spectroscopie interférentielle à réflexion, l'attention est portée sur le fait que, étant donné que l'épaisseur de film optique du film d'interférence augmente, la position de pic de la répartition spectrale de la réflectivité spectrale (ou sa quantité de changement) se déplace vers le côté à grande longueur d'onde, par exemple, selon l'ordre d'une courbe (b1), d'une courbe (b2), d'une courbe (b3) et d'une courbe (b4), et le nombre de pics de celle-ci augmente, la relation entre une longueur d'onde à laquelle l'épaisseur de film optique du film d'interférence fournit la valeur extrême de réflectivité spectrale (ou quantité de changement) dans un stratifié connu et l'épaisseur de film optique est créée à l'avance pour chaque épaisseur différente de film optique, et l'épaisseur de film optique qui fournit une valeur extrême à une longueur d'onde approximative est identifiée par l'application, à la relation mentionnée ci-dessus, d'une longueur d'onde à laquelle la valeur extrême de la réflectivité spectrale (ou quantité de changement) dans le stratifié à mesurer par spectroscopie interférentielle à réflexion est fournie, ce qui permet de trouver l'épaisseur de film optique du film d'interférence devant être mesuré.
(JA)
反射干渉分光法により干渉膜の光学膜厚を測定すること、干渉膜の光学膜厚に変化があれば、その変化した分の光学膜厚を測定することを課題とする。 基板上に干渉膜が積層した積層体における該干渉膜の光学膜厚を反射干渉分光法により測定するあたり、干渉膜の光学膜厚が厚くなるに従って分光反射率(又はその変化量)の分光分布のピーク位置が曲線b1→曲線b2→曲線b3→曲線b4のように長波長側に移動しそのピークの数が増加する傾向に着目して、予め、干渉膜の光学膜厚が既知の積層体における分光反射率(変化量)の極値を与える波長と当該光学膜厚との関係を異なる光学膜厚について作成しておき、反射干渉分光法により得られた測定対象の積層体における分光反射率(変化量)の極値を与える波長を、上記関係に当てはめて、極値を与える波長が近似する光学膜厚を同定することにより、測定対象の干渉膜の光学膜厚を求める。
他の公開
国際事務局に記録されている最新の書誌情報