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1. WO2012133439 - 電気抵抗層付き金属箔及びその製造方法

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公開番号 WO/2012/133439
公開日 04.10.2012
国際出願番号 PCT/JP2012/057979
国際出願日 27.03.2012
IPC
C23C 30/00 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
30金属材料の組成にのみ特徴のある金属質材料による被覆,すなわち被覆方法に特徴のないもの
B32B 15/01 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15本質的に金属からなる積層体
01すべての層がもっぱら金属質であるもの
B32B 15/08 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15本質的に金属からなる積層体
04層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
08合成樹脂の層に隣接したもの
H05K 1/09 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
K印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
1印刷回路
02細部
09金属パターンのための材料の使用
CPC
B32B 15/01
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
15Layered products comprising ; a layer of; metal
01all layers being exclusively metallic
C22C 1/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
1Making alloys
02by melting
C22C 19/058
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
19Alloys based on nickel or cobalt
03based on nickel
05with chromium
058without Mo and W
C23C 14/022
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
02Pretreatment of the material to be coated
021Cleaning or etching treatments
022by means of bombardment with energetic particles or radiation
C23C 14/165
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
14Metallic material, boron or silicon
16on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
165by cathodic sputtering
H01C 7/00
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CRESISTORS
7Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
出願人
  • ＪＸ日鉱日石金属株式会社 JX Nippon Mining & Metals Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 黒澤　俊雄 KUROSAWA,Toshio [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 黒澤　俊雄 KUROSAWA,Toshio
代理人
  • アクシス国際特許業務法人 AXIS Patent International
優先権情報
2011-07076028.03.2011JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METAL FOIL HAVING ELECTRICAL RESISTANCE LAYER, AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME
(FR) FEUILLE MÉTALLIQUE AVEC COUCHE DE RÉSISTANCE ÉLECTRIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 電気抵抗層付き金属箔及びその製造方法
要約
(EN)
　The purpose of the present invention is to provide a metal foil having an electrical resistance layer and a manufacturing method for the metal foil, said metal foil inhibiting the detachment of the metal foil and the resistance layer disposed on the metal foil, and enabling the reduction of variations in resistance values in the resistance layer. The metal foil having an electrical resistance layer comprises: a metal foil that has a surface treated by an ion beam irradiation at an ion beam intensity of 0.70-2.10 sec・W/cm2, resulting in a ten-point average roughness (Rz) of 1μm or less as measured by an optical method; and an electrical resistance layer that is disposed on the aforementioned surface of the metal foil.
(FR)
L'invention a pour objectif de fournir une feuille métallique avec couche de résistance électrique et un procédé de fabrication de cette feuille métallique, laquelle empêche son décollement par rapport à la couche de résistance électrique disposée à sa surface, et qui permet également une réduction des irrégularités de la valeur ohmique de la couche de résistance électrique. Plus particulièrement, l'invention concerne une feuille métallique avec couche de résistance électrique qui est équipée : de la feuille métallique dont la rugosité moyenne sur dix points (Rz) mesurée selon un procédé optique est inférieure ou égale à 1μm, et qui possède une surface soumise à un traitement par irradiation à l'aide d'un faisceau ionique dont l'intensité est comprise entre 0,70 et 2,10 sec.W/cm2; et de la couche de résistance électrique disposée sur ladite surface de la feuille métallique.
(JA)
　本発明は、金属箔と金属箔上に配置される抵抗層との間の剥離を抑制し、且つ抵抗層の抵抗値のばらつきを低減可能な電気抵抗層付き金属箔及びその製造方法を提供することを目的とし、光学的方法で測定した十点平均粗さＲｚが１μｍ以下であり、イオンビーム強度０．７０～２．１０ｓｅｃ・Ｗ／ｃｍ2のイオンビーム照射により処理された表面を有する金属箔と、金属箔の前記表面上に配置された電気抵抗層とを備える電気抵抗層付き金属箔である。
他の公開
JP2012201980
US20140015635
国際事務局に記録されている最新の書誌情報
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