処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2012133374 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法

公開番号 WO/2012/133374
公開日 04.10.2012
国際出願番号 PCT/JP2012/057871
国際出願日 27.03.2012
IPC
G11B 5/84 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84記録担体の製造に特に適合する方法または装置
C03C 15/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
C03C 19/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
19繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,機械的手段による表面処理(ガラスのサンドブラスト,荒けずりまたはつや出しB24)
C03C 23/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
23繊維やフィラメントの形態をとらない繊維以外のガラスのその他の表面処理
CPC
C03C 19/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
19Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
C03C 23/0075
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
23Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
0075Cleaning of glass
G11B 5/8404
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
8404manufacturing base layers
出願人
  • コニカミノルタ株式会社 Konica Minolta, Inc. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 中江 葉月 NAKAE, Hazuki [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 中江 葉月 NAKAE, Hazuki
代理人
  • 特許業務法人深見特許事務所 Fukami Patent Office, p.c.
優先権情報
2011-07419230.03.2011JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR PRODUCING MAGNETIC-DISK GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT EN VERRE DE DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
要約
(EN)
Provided is a method for producing a magnetic-disk glass substrate having a small amount of adhesion of adhered matters with sizes of 200 nm or smaller. This method for producing a magnetic-disk glass substrate involves a step of polishing the principal surface of a disk-shaped glass substrate precursor and is characterized in that: the step of polishing the principal surface involves a rough polishing step and a precise polishing step; a first cleaning step performed after the rough polishing step is a step of removing a thickness of 10-200 nm from the surface of the glass substrate precursor; and a second cleaning step performed after the precise polishing step is a step of irradiating the surface of the glass substrate precursor with an ultrasonic wave having a frequency of 900 kHz or higher.
(FR)
L'invention concerne un procédé pour produire un substrat en verre de disque magnétique présentant une faible quantité d'adhérence de substances adhérées avec des tailles de 200 nm ou moins. Ce procédé pour produire un substrat en verre de disque magnétique comprend une étape de polissage de la surface principale d'un précurseur de substrat en verre en forme de disque et est caractérisé en ce que : l'étape de polissage de la surface principale comprend une étape de polissage grossier et une étape de polissage précis; une première étape de nettoyage effectuée après l'étape de polissage grossier est une étape de retrait d'une épaisseur de 10 à 200 nm de la surface du précurseur de substrat en verre; et une seconde étape de nettoyage effectuée après l'étape de polissage précis est une étape d'irradiation de la surface du précurseur de substrat en verre avec une onde ultrasonore ayant une fréquence de 900 KHz ou plus.
(JA)
 200nm以下の大きさの付着物の付着量が少ない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円盤状のガラス基板前駆体の主表面を研磨する工程を含むものであって、該主表面を研磨する工程は、粗研磨工程と精密研磨工程とを含み、粗研磨工程の後に行なう第1洗浄工程は、ガラス基板前駆体の表面から10~200nmの厚みを除去する工程であり、精密研磨工程の後に行なう第2洗浄工程は、ガラス基板前駆体の表面に900kHz以上の周波数の超音波を照射する工程であることを特徴とする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報