(EN) Provided is a method for producing a magnetic-disk glass substrate having a small amount of adhesion of adhered matters with sizes of 200 nm or smaller. This method for producing a magnetic-disk glass substrate involves a step of polishing the principal surface of a disk-shaped glass substrate precursor and is characterized in that: the step of polishing the principal surface involves a rough polishing step and a precise polishing step; a first cleaning step performed after the rough polishing step is a step of removing a thickness of 10-200 nm from the surface of the glass substrate precursor; and a second cleaning step performed after the precise polishing step is a step of irradiating the surface of the glass substrate precursor with an ultrasonic wave having a frequency of 900 kHz or higher.
(FR) L'invention concerne un procédé pour produire un substrat en verre de disque magnétique présentant une faible quantité d'adhérence de substances adhérées avec des tailles de 200 nm ou moins. Ce procédé pour produire un substrat en verre de disque magnétique comprend une étape de polissage de la surface principale d'un précurseur de substrat en verre en forme de disque et est caractérisé en ce que : l'étape de polissage de la surface principale comprend une étape de polissage grossier et une étape de polissage précis; une première étape de nettoyage effectuée après l'étape de polissage grossier est une étape de retrait d'une épaisseur de 10 à 200 nm de la surface du précurseur de substrat en verre; et une seconde étape de nettoyage effectuée après l'étape de polissage précis est une étape d'irradiation de la surface du précurseur de substrat en verre avec une onde ultrasonore ayant une fréquence de 900 KHz ou plus.
(JA) ２００ｎｍ以下の大きさの付着物の付着量が少ない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円盤状のガラス基板前駆体の主表面を研磨する工程を含むものであって、該主表面を研磨する工程は、粗研磨工程と精密研磨工程とを含み、粗研磨工程の後に行なう第１洗浄工程は、ガラス基板前駆体の表面から１０～２００ｎｍの厚みを除去する工程であり、精密研磨工程の後に行なう第２洗浄工程は、ガラス基板前駆体の表面に９００ｋＨｚ以上の周波数の超音波を照射する工程であることを特徴とする。