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1. WO2012132385 - 光電場増強デバイスの製造方法

公開番号 WO/2012/132385
公開日 04.10.2012
国際出願番号 PCT/JP2012/002072
国際出願日 26.03.2012
IPC
G01N 21/65 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
62調査される材料が励起され,それにより光を発しまたは入射光の波長に変化を生ずるシステム
63光学的励起
65ラマン散乱
B82Y 20/00 2011.01
B処理操作;運輸
82ナノテクノロジー
Yナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
20ナノ光学,例.量子光学またはフォトニック結晶
B82Y 40/00 2011.01
B処理操作;運輸
82ナノテクノロジー
Yナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
40ナノ構造物の製造または処理
C23C 28/00 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
28メイングループC23C2/00からC23C26/00の単一のメイングループに分類されない方法によるかまたはサブクラスC23CおよびC25Dに分類される方法の組合わせによる少なくとも2以上の重ね合わせ被覆層を得るための被覆
G01N 21/27 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
17調査される材料の特性に応じて入射光が変調されるシステム
25色;スペクトル特性,すなわち2またはそれ以上の波長あるいは波長帯において材料が光に与える効果の比較
27光電検出器を用いるもの
CPC
B82Y 20/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
20Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
C03C 17/09
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
06with metals
09by deposition from the vapour phase
C03C 2218/32
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2218Methods for coating glass
30Aspects of methods for coating glass not covered above
32After-treatment
C23C 14/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
14Metallic material, boron or silicon
18on other inorganic substrates
C23C 14/5853
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
58After-treatment
5846Reactive treatment
5853Oxidation
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 山添 昇吾 YAMAZOE, Shogo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 納谷 昌之 NAYA, Masayuki [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 山添 昇吾 YAMAZOE, Shogo
  • 納谷 昌之 NAYA, Masayuki
代理人
  • 柳田 征史 YANAGIDA, Masashi
優先権情報
2011-07786831.03.2011JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL-ELECTRIC-FIELD ENHANCEMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF DESTINÉ À AMÉLIORER UN CHAMP OPTOÉLECTRIQUE
(JA) 光電場増強デバイスの製造方法
要約
(EN)
[Problem] To manufacture an optical-electric-field enhancement device capable of detecting Raman-scattered light with high sensitivity in an easy and low cost manner. [Solution] Form, on a substrate (11), a thin film (20) formed from a first metal or metal oxide, and form a micro-relief structure layer (22) formed from a hydroxide of the first metal or metal oxide by hydrothermally reacting the thin film (20) formed on the substrate (11), and then form a metallic micro-relief structure layer (24), formed from a second metal, on the surface of the micro-relief structure layer (22).
(FR)
Pour fabriquer un dispositif destiné à améliorer un champ optoélectrique permettant de détecter la lumière diffusée de type Raman à une sensibilité élevée, de manière simple et économique, la présente invention forme, sur un substrat (11), un film mince (20) à base d'un premier métal ou oxyde métallique, et forme une couche de type structure à micro-reliefs (22) à partir d'un hydroxyde dudit premier métal ou oxyde métallique par réaction hydrothermique du film mince (20) revêtant le substrat (11), puis forme une couche de type structure à micro-reliefs métalliques (24),à partir d'un second métal, sur la surface de la couche de type structure à micro-reliefs (22).
(JA)
【課題】ラマン散乱光を高い感度で検出し得る光電場増強デバイスを容易、かつ低コストに製造する。 【解決手段】基板(11)上に第1の金属または金属酸化物から成る薄膜(20)を形成し、この基板(11)上に形成された薄膜(20)を水熱反応させることにより、第1の金属または金属酸化物の水酸化物からなる微細凹凸構造層(22)を形成し、その後、微細凹凸構造層(22)の表面に、第2の金属から成る金属微細凹凸構造層(24)を形成する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報