(EN) A ferromagnetic sputtering target the composition of which is 5 to 50 mol% of Pt, 5 to 15 mol% of SiO2, 0.05 to 0.60 mol% of Sn, and Fe as the balance, wherein the above-mentioned Sn is contained in SiO2 particles (B) dispersed in a metal base (A). A non-magnetic particle dispersion-type ferromagnetic sputtering target is obtained that can control abnormal discharge of the oxide that is the source of particle generation during sputtering.
(FR) L'invention concerne une cible de pulvérisation ferromagnétique, dont la composition est la suivante: 5 à 50% molaire de Pt, 5 à 15% molaire de SiO, 0,05 à 0,60% molaire de Sn, le reste étant du Fe. Le Sn mentionné est contenu dans des particules de SiO (B) qui sont dispersées dans une base métallique (A). La cible de pulvérisation ferromagnétique obtenue, du type à dispersion de particules non magnétiques, permet de réguler une décharge anormale de l'oxyde qui constitue la source de production de particules pendant la pulvérisation.
(JA) Ptが5~50mol%、SiO2が5~15mol%、Snが0.05~0.60mol%、残余がFeである組成のスパッタリングターゲットであって、金属素地(A)中に分散しているSiO2の粒子(B)中に、前記Snが含有されていることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。スパッタリング時のパーティクル発生の原因となる酸化物の異常放電を抑制することができる非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲットを得る。