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1. WO2012086578 - Ｆｅ－Ｐｔ系強磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法

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公開番号 WO/2012/086578
公開日 28.06.2012
国際出願番号 PCT/JP2011/079327
国際出願日 19.12.2011
予備審査請求日 24.04.2012
IPC
C23C 14/34 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
B22F 3/14 2006.1
B処理操作;運輸
22鋳造;粉末冶金
F金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
12成形と焼結の両者を特徴とするもの
14両者を同時に行なうもの
C22C 1/05 2006.1
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
1非鉄合金の製造
04粉末冶金によるもの
05金属粉末と非金属粉末の混合物
C22C 5/04 2006.1
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
5貴金属を基とする合金
04白金族金属を基とする合金
C22C 32/00 2006.1
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
32その状態で加えたかまたは合金中で形成された酸化物,炭化物,ほう化物,窒化物,けい化物,またはその他の金属化合物,例.酸窒化物,硫化物,を5重量%以上50重量%未満含有する非鉄合金
C22C 33/02 2006.1
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
33鉄合金の製造
02粉末冶金によるもの
CPC
B22F 2009/043
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
9Making metallic powder or suspensions thereof
02using physical processes
04starting from solid material, e.g. by crushing, grinding or milling
043by ball milling
B22F 3/14
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
3Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; ; Presses and furnaces
12Both compacting and sintering
14simultaneously
C22C 32/0021
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
32Non-ferrous alloys containing at least 5% by weight but less than 50% by weight of oxides, carbides, borides, nitrides, silicides or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides whether added as such or formed in situ
001with only oxides
0015with only single oxides as main non-metallic constituents
0021Matrix based on noble metals, Cu or alloys thereof
C22C 33/0278
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
33Making ferrous alloys
02by powder metallurgy
0257characterised by the range of the alloying elements
0278with at least one alloying element having a minimum content above 5%
C22C 38/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
38Ferrous alloys, e.g. steel alloys
C22C 38/002
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
38Ferrous alloys, e.g. steel alloys
002containing In, Mg, or other elements not provided for in one single group C22C38/001 - C22C38/60
出願人
  • ＪＸ日鉱日石金属株式会社 JX Nippon Mining & Metals Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 池田　祐希 IKEDA Yuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 高見　英生 TAKAMI Hideo [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 池田　祐希 IKEDA Yuki
  • 高見　英生 TAKAMI Hideo
代理人
  • 小越　勇 OGOSHI Isamu
優先権情報
2010-28277120.12.2010JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FE-PT FERROMAGNETIC SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION FERROMAGNÉTIQUE DE FE-PT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLE-CI
(JA) Ｆｅ－Ｐｔ系強磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法
要約
(EN) A ferromagnetic sputtering target the composition of which is 5 to 50 mol% of Pt, 5 to 15 mol% of SiO2, 0.05 to 0.60 mol% of Sn, and Fe as the balance, wherein the above-mentioned Sn is contained in SiO2 particles (B) dispersed in a metal base (A). A non-magnetic particle dispersion-type ferromagnetic sputtering target is obtained that can control abnormal discharge of the oxide that is the source of particle generation during sputtering.
(FR) L'invention concerne une cible de pulvérisation ferromagnétique, dont la composition est la suivante: 5 à 50% molaire de Pt, 5 à 15% molaire de SiO, 0,05 à 0,60% molaire de Sn, le reste étant du Fe. Le Sn mentionné est contenu dans des particules de SiO (B) qui sont dispersées dans une base métallique (A). La cible de pulvérisation ferromagnétique obtenue, du type à dispersion de particules non magnétiques, permet de réguler une décharge anormale de l'oxyde qui constitue la source de production de particules pendant la pulvérisation.
(JA) Ｐｔが５～５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２が５～１５ｍｏｌ％、Ｓｎが０．０５～０．６０ｍｏｌ％、残余がＦｅである組成のスパッタリングターゲットであって、金属素地（Ａ）中に分散しているＳｉＯ２の粒子（Ｂ）中に、前記Ｓｎが含有されていることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。スパッタリング時のパーティクル発生の原因となる酸化物の異常放電を抑制することができる非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲットを得る。
関連特許文献
CN103261471
US20130292245
MYPI 2013002228
JPWO2012086578
SG2013044458
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