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1. (WO2012011488) 載置台構造及び処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/011488 国際出願番号: PCT/JP2011/066420
国際公開日: 26.01.2012 国際出願日: 20.07.2011
IPC:
H01L 21/683 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01) ,H01L 21/31 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
458
反応室の基板を支えるのに使われる方法に特徴があるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
出願人:
東京エレクトロン株式会社 Tokyo Electron Limited [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1076325, JP (AllExceptUS)
長岡 秀樹 NAGAOKA, Hideki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
長岡 秀樹 NAGAOKA, Hideki; JP
代理人:
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; 東京都渋谷区恵比寿4丁目20番3号 恵比寿ガーデンプレイスタワー32階 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032, JP
優先権情報:
2010-16366021.07.2010JP
発明の名称: (EN) PLACING TABLE STRUCTURE AND PROCESSING APPARATUS
(FR) STRUCTURE AVEC TABLE DE MISE EN PLACE ET APPAREIL DE TRAITEMENT
(JA) 載置台構造及び処理装置
要約:
(EN) Provided is a placing table structure, which is provided in an air-releasable processing container, and which has placed thereon a body to be processed. The placing table structure is provided with: a placing table (58), which has placed thereon the body to be processed, and has a heating unit that heats the body to be processed; a columnar structure (60), which stands from the bottom portion of the processing container, and has an upper end portion thereof connected to the lower surface of the placing table; a fixing unit (62), which fixes the lower end portion of the columnar structure to the bottom portion of the processing container; and a heat shield structure having a plurality of heat shield plates (64), which are dispersedly provided in the height direction of the columnar structure on the outer side of the columnar structure.
(FR) L'invention concerne une structure avec table de mise en place qui est placée dans un récipient de traitement, d'où l'air peut être évacué, et sur laquelle est placé un corps à traiter. La Structure avec table de mise en place comporte : une table (58) de mise en place sur laquelle est placé le corps à traiter et qui est dotée d'une unité chauffante qui chauffe le corps à traiter ; une structure (60) en colonne qui est dressée à partir de la partie de fond du récipient de traitement et dont une partie d'extrémité supérieure est reliée à la surface inférieure de la table de mise en place ; une unité (62) de fixation qui fixe la partie d'extrémité inférieure de la structure en colonne à la partie de fond du récipient de traitement ; et une structure de protection thermique comprenant une pluralité de plaques (64) de protection thermique placées de façon dispersée dans le sens de la hauteur de la structure en colonne du côté extérieur de la structure en colonne.
(JA)  排気可能な処理容器内に設けられ処理すべき被処理体が載置される載置台構造が提供される。この載置台構造は、前記被処理体が載置され、前記被処理体を加熱する加熱部を有する載置台(58)と、前記処理容器の底部から起立し、上端部において前記載置台の下面に連結される支柱構造(60)と、前記支柱構造の下端部を前記処理容器の底部に固定する固定部(62)と、前記支柱構造の外側に、前記支柱構造の高さ方向に沿って分散させて設けられた複数の遮熱板(64)を有する遮熱構造と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)