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1. (WO2012011456) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/011456 国際出願番号: PCT/JP2011/066307
国際公開日: 26.01.2012 国際出願日: 19.07.2011
IPC:
H01L 51/50 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/12 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP (AllExceptUS)
小野 善伸 ONO, Yoshinobu [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
小野 善伸 ONO, Yoshinobu; JP
代理人:
酒井 宏明 SAKAI, Hiroaki; 東京都千代田区霞が関三丁目2番5号 霞が関ビルディング 酒井国際特許事務所 Sakai International Patent Office, Kasumigaseki Building, 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006020, JP
優先権情報:
2010-16407721.07.2010JP
発明の名称: (EN) ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE À DIODES ÉLECTROLUMINESCENTES ORGANIQUES ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À DIODES ÉLECTROLUMINESCENTES ORGANIQUES
(JA) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置
要約:
(EN) The disclosed manufacturing method involves: a step in which an electron injection layer is formed on a substrate, on which multiple negative electrodes are formed corresponding to each pixel, by coating all pixels in common with a solvent containing an ionic polymer as an electron injection material; a step in which a light-emitting layer is formed by coating the aforementioned electron injection layer with a solvent containing a light-emitting material, or, after forming on the aforementioned electron injection layer a layer other than the aforementioned light-emitting layer, by coating said other layer with a solvent containing a light-emitting material; a step in which positive electrodes are formed by forming a film of a positive electrode material on the aforementioned light-emitting layer, or, after forming a layer other than the positive electrode on the aforementioned light-emitting layer, by forming on said other layer a film of the positive electrode material.
(FR) Le procédé de fabrication selon l'invention comprend : une étape au cours de laquelle une couche d'injection d'électrons est formée sur un substrat, sur lequel des électrodes négatives multiples sont formées en correspondance avec chaque pixel, par application conjointe sur tous les pixels d'un revêtement composé d'un solvant contenant un polymère ionique comme matériau d'injection d'électrons; une étape au cours de laquelle une couche électroluminescente est formée par application sur la couche d'injection d'électrons susmentionnée d'un solvant contenant un matériau électroluminescent ou, après formation sur la couche d'injection d'électrons susmentionnée d'une couche autre que la couche électroluminescente susmentionnée, par application sur ladite autre couche d'un solvant contenant un matériau électroluminescent; une étape au cours de laquelle des électrodes positives sont formées par formation d'un film d'un matériau d'électrode positive sur la couche électroluminescente susmentionnée ou, après formation d'une couche autre que l'électrode positive sur la couche électroluminescente susmentionnée, par formation sur ladite autre couche d'un film du matériau d'électrode positive.
(JA)  本発明の製造方法は、各画素に対応する複数の陰極が形成された基板上に、電子注入性材料としてイオン性ポリマーを含む溶液を全画素に共通に塗布し、成膜することにより電子注入層を形成する工程と、前記電子注入層の上に、発光材料を含む溶液を塗布し、成膜することにより、あるいは、前記電子注入層の上に発光層以外の層を形成した後、該層の上に発光材料を含む溶液を塗布し、製膜することにより、発光層を形成する工程と、前記発光層の上に、陽極材料を成膜することにより、あるいは、前記発光層の上に陽極以外の層を形成した後、該層の上に陽極材料を成膜することにより、陽極を形成する工程とを含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)