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1. (WO2012011411) 液処理装置及び液処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/011411 国際出願番号: PCT/JP2011/065869
国際公開日: 26.01.2012 国際出願日: 12.07.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B05C 11/08 (2006.01) ,B05D 1/26 (2006.01) ,B05D 1/40 (2006.01) ,G03F 7/30 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C
液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
11
グループB05C1/00からB05C9/00までに特に分類されない構成部品,細部または付属品
02
表面にすでに適用された液体または他の流動性材料を拡げるまたは再分布するための装置;コーティングの厚さの制御
08
被加工物を操作,例.傾斜,することによって液体または他の流動性材料を拡げるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
26
表面と接触,またはほとんど接触する排出口機構から液体または他の流動性材料を適用することによって行なわれるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
40
表面に関連して動く部材による適用された液体または他の流動性材料の分布
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP (AllExceptUS)
滝口 靖史 TAKIGUCHI Yasushi [JP/JP]; JP (UsOnly)
山本 太郎 YAMAMOTO Taro [JP/JP]; JP (UsOnly)
山畑 努 YAMAHATA Tsutomu [JP/JP]; JP (UsOnly)
藤本 昭浩 FUJIMOTO Akihiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
藤村 浩二 FUJIMURA Kouji [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
滝口 靖史 TAKIGUCHI Yasushi; JP
山本 太郎 YAMAMOTO Taro; JP
山畑 努 YAMAHATA Tsutomu; JP
藤本 昭浩 FUJIMOTO Akihiro; JP
藤村 浩二 FUJIMURA Kouji; JP
代理人:
勝沼 宏仁 KATSUNUMA Hirohito; 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 富士ビル323号 協和特許法律事務所 Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
優先権情報:
2010-16606723.07.2010JP
発明の名称: (EN) FLUID PROCESSING DEVICE AND FLUID PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR FLUIDES
(JA) 液処理装置及び液処理方法
要約:
(EN) [Problem] To provide a fluid processing device capable of processing with high levels of throughput while minimizing the number of nozzles for fluid chemicals when carrying out fluid processing on a substrate, horizontally retaining the substrate within a cup and supplying the fluid chemicals therewithin. [Solution] With reference to a developing process of the fluid process type, two types of developer nozzles are provided so as to be capable of supporting two types of development processing schemes. The developer nozzle that is employed in the scheme, from among the two schemes, which has the longer nozzle restraint time, is disposed separately for first fluid processing modules (1, 2), and the developer nozzle that is employed in the scheme that has the shorter nozzle restraint time is shared jointly with both of the modules (1, 2). The shared developer nozzle is configured to be on standby in an intermediate location between both of the modules (1, 2).
(FR) [Problème] L'invention concerne un dispositif de traitement par fluides capable d'effectuer un traitement à des cadences élevées tout en minimisant le nombre de buses destinées à des produits chimiques fluides lors de la réalisation d'un traitement par fluides sur un substrat, de maintenir horizontalement le substrat à l'intérieur d'une cuvette et d'y amener les produits chimiques fluides. [Solution] À cet effet, en raison d'un processus de développement du type faisant intervenir des fluides, deux types de buses pour révélateur sont employés de façon à pouvoir prendre en charge deux types de plans de traitement de développement. La buse pour révélateur, employée dans celui des deux plans qui est caractérisé par la plus longue durée d'immobilisation des buses, est disposée séparément pour des premiers modules (1, 2) de traitement par fluides et la buse pour révélateur employée dans celui des deux plans qui est caractérisé par la plus courte durée d'immobilisation des buses est mise en commun entre les deux modules (1, 2). La buse commune pour révélateur est configurée pour être en attente à un emplacement intermédiaire entre les deux modules (1, 2).
(JA) [課題]カップ体内にて基板を水平に保持し、薬液を供給して基板に対して液処理を行うにあたり、薬液用のノズルの数を抑えながら高いスループットで処理することのできる液処理装置を提供すること。 [解決手段]液処理として現像処理を挙げると、2つの種類の現像処理方式に対応できるように2種類の現像ノズルを用意し、両方の方式のうちノズルの拘束時間が長い方式に用いられる現像ノズルについては、第1の液処理モジュール1、2に対して個別に設け、ノズルの拘束時間が短い方式に用いられる現像ノズルについては、両モジュール1、2に対して共有化する。そして共有化した現像ノズルについては、両モジュール1、2の中間位置にて待機するように構成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
US20130118533CN102986003KR1020130032365