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1. (WO2012011280) 成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/011280 国際出願番号: PCT/JP2011/004104
国際公開日: 26.01.2012 国際出願日: 20.07.2011
IPC:
C23C 16/54 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
54
連続被覆に特に適合した装置
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP (AllExceptUS)
大園 修司 OSONO, Shuji [JP/JP]; JP (UsOnly)
斎藤 一也 SAITO, Kazuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
大園 修司 OSONO, Shuji; JP
斎藤 一也 SAITO, Kazuya; JP
代理人:
大森 純一 OMORI, Junichi; 東京都港区赤坂7-5-47 U&M赤坂ビル2F 2nd Floor U&M Akasaka Bldg., 7-5-47 Akasaka, Minato-ku, Tokyo 1070052, JP
優先権情報:
2010-16453222.07.2010JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
要約:
(EN) Provided is a film forming apparatus which can continuously form a film without causing thermal deformation of a film-shaped base material. A film forming apparatus (1) comprises a chamber (10), a cooling roller (13), a gas supply source (16), and a plurality of catalytic wires (17). The cooling roller (13) is rotated about a rotation axis (13a) to thereby cool a film-shaped base material (F) wound around an outer peripheral surface (13b) and to convey the base material (F) inside the chamber (10). The gas supply source (16) supplies a source gas to the base material (F) wound around the outer peripheral surface (13b), and is disposed facing the outer peripheral surface (13b). The catalytic wires (17) are disposed between the outer peripheral surface (13b) and the gas supply source (16) and can be heated to the decomposition temperature of the source gas. As a result, a film can be continuously formed on the base material (F) while the base material (F) is protected from the heat of the catalytic wires (17).
(FR) L'invention concerne un dispositif de formation de film permettant la formation d'un film en continu sans apparition de déformation thermique sur le matériau de base en forme de film. Le dispositif de formation de film (1) est équipé : d'une chambre (10); d'un rouleau de refroidissement (13); d'une source d'approvisionnement en gaz (16); et d'une pluralité de fils catalytiques (17). Le rouleau de refroidissement (13) par rotation autour d'un axe de rotation (13a), transporte tout en le refroidissant le matériau de base (F) en forme de film qui est enroulé sur une face périphérique externe (13b), à l'intérieur de la chambre (10). La source d'approvisionnement en gaz (16) est destinée à approvisionner en gaz de départ le matériau de base (F) qui est enroulé sur la face périphérique externe (13b), et est disposée en regard de la face périphérique externe (13b). La pluralité de fils catalytiques (17) est placée entre la face périphérique externe (13b) et la source d'approvisionnement en gaz (16), et permet une génération de chaleur à une température de décomposition du gaz de départ. Par conséquent, le matériau de base (F) est protégé de la chaleur des fils catalytiques (17), et il est possible de former un film en continu sur le matériau de base (F).
(JA) 【課題】フィルム状の基材に熱変形を生じさせることなく連続的に成膜することが可能な成膜装置を提供する。 【解決手段】成膜装置1は、チャンバ10と、冷却ローラ13と、ガス供給源16と、複数の触媒線17とを具備する。冷却ローラ13は、回転軸13aのまわりに回転することで外周面13bに巻き付けられたフィルム状の基材Fを冷却しつつチャンバ10内で搬送する。ガス供給源16は、外周面13bに巻き付けられた基材Fへ原料ガスを供給するためのものであり、外周面13bに対向して配置される。複数の触媒線17は、外周面13bとガス供給源16との間に設置され、原料ガスの分解温度に発熱可能である。これにより、基材Fを触媒線17の熱から保護しつつ、基材Fに連続的に成膜することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)