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1. WO2012008551 - メタマテリアルの製造方法およびメタマテリアル

公開番号 WO/2012/008551
公開日 19.01.2012
国際出願番号 PCT/JP2011/066162
国際出願日 14.07.2011
IPC
G02B 5/30 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
30偏光要素
C23C 14/04 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C23C 16/04 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
04選択された表面部分への被覆,例.マスクを用いるもの
CPC
B05D 1/60
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
1Processes for applying liquids or other fluent materials
60Deposition of organic layers from vapour phase
B05D 3/002
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
3Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
002Pretreatement
B05D 5/12
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
5Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
12to obtain a coating with specific electrical properties
C23C 14/0005
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
0005Separation of the coating from the substrate
C23C 14/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
C23C 14/225
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
225Oblique incidence of vaporised material on substrate
出願人
  • 旭硝子株式会社 Asahi Glass Company, Limited. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 北岡 賢治 KITAOKA Kenji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 庭野 和彦 NIWANO Kazuhiko [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 北岡 賢治 KITAOKA Kenji
  • 庭野 和彦 NIWANO Kazuhiko
代理人
  • 小栗 昌平 OGURI Shohei
優先権情報
2010-16095615.07.2010JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PROCESS FOR PRODUCING METAMATERIAL, AND METAMATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MÉTAMATÉRIAU, ET MÉTAMATÉRIAU
(JA) メタマテリアルの製造方法およびメタマテリアル
要約
(EN)
Provided is a process for producing a metamaterial with excellent productivity. The disclosed process for producing a metamaterial having an electromagnetic-wave resonant body that resonates with electromagnetic waves involves vapor-depositing a material for forming the electromagnetic-wave resonant body onto a support body having a shape corresponding to the shape of the electromagnetic-wave resonant body, to thereby dispose the electromagnetic-wave resonant body on the support body.
(FR)
L'invention concerne un procédé de production d'un métamatériau présentant une excellente productivité. Ledit procédé permet de produire un métamatériau comportant un corps résonnant aux ondes électromagnétiques par dépôt en phase vapeur d'un matériau pour former le corps résonnant sur un corps de support dont la forme correspond au corps résonnant aux ondes électromagnétiques.
(JA)
 生産性に優れたメタマテリアルを製造する方法を提供する。本発明は、電磁波に対して共振する電磁波共振体を備える、メタマテリアルの製造方法であって、前記電磁波共振体の形状に対応する形状を有する支持体に、前記電磁波共振体を形成する材料を蒸着することによって、前記支持体に電磁波共振体を配置することを含むメタマテリアルの製造方法に関する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報