国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。フィードバック & お問い合わせ
1. (WO2012008427) 低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材、並びに、低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/008427 国際出願番号: PCT/JP2011/065840
国際公開日: 19.01.2012 国際出願日: 12.07.2011
IPC:
C03C 17/25 (2006.01) ,C09D 1/00 (2006.01) ,C09D 7/12 (2006.01) ,C09D 185/00 (2006.01) ,H01L 31/042 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
22
他の無機物によるもの
23
酸化物
25
液相からの析出によるもの
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
1
無機物質に基づくコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
7
グループ5/00に分類されない塗料組成物の特色
12
他の添加物
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
185
主鎖に,けい素,いおう,窒素,酸素および炭素以外の原子を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づくコーティング組成物;そのような重合体の誘導体に基づくコーティング組成物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04
変換装置として使用されるもの
042
光電池のパネルまたは配列を含むもの,例.太陽電池
出願人:
セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP (AllExceptUS)
杉本 敏明 SUGIMOTO, Toshiaki; null (UsOnly)
高信 尚史 TAKANOBU, Naofumi; null (UsOnly)
原 育成 HARA, Ikunari; null (UsOnly)
発明者:
杉本 敏明 SUGIMOTO, Toshiaki; null
高信 尚史 TAKANOBU, Naofumi; null
原 育成 HARA, Ikunari; null
代理人:
小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi; 東京都中央区明石町1番29号 掖済会ビル SHIGA内外国特許事務所内 c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044, JP
優先権情報:
2010-15825812.07.2010JP
2010-15825912.07.2010JP
2010-15826012.07.2010JP
2010-15826112.07.2010JP
2010-29171928.12.2010JP
2010-29172028.12.2010JP
2010-29172128.12.2010JP
2010-29172228.12.2010JP
2011-15070007.07.2011JP
2011-15070107.07.2011JP
2011-15070207.07.2011JP
2011-15070307.07.2011JP
発明の名称: (EN) LOW-REFLECTIVE FILM, METHOD FOR FORMATION THEREOF AND LOW-REFLECTIVE MEMBER EQUIPPED THEREWITH, AND COATING SOLUTION FOR FORMATION OF LOW-REFLECTIVE FILM, METHOD FOR PREPARATION THEREOF AND LOW-REFLECTIVE MEMBER EQUIPPED THEREWITH
(FR) FILM FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT, SON PROCÉDÉ DE FORMATION ET ÉLÉMENT FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT DOTÉ DE CELUI-CI ET SOLUTION DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION D'UN FILM FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET ÉLÉMENT FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT DOTÉ DE CELLE-CI
(JA) 低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材、並びに、低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材
要約:
(EN) [Problem] To provide a low-reflective film to be formed on a transparent base material and a method for forming the low-reflective film. Specifically, to provide a low-reflective film which can have a low refractive index and a low reflectance when prepared in the form of a single-layered film and can be formed so as to have a large surface area in a simpler manner, a method for forming the low-reflective film, and a low-reflective member equipped with the low-reflective film. [Solution] A low-reflective film and a process for producing the low-reflective film, said low-reflective film characterised by comprising silica microparticles and at least one metal oxide selected from a group consisting of tungsten oxide, niobium oxide, tantalum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, aluminum oxide, hafnium oxide, chromium oxide, cerium oxide, molybdenum oxide and lanthanum oxide as a binder in an amount of 5 to 40 mass% inclusive relative to the amount of the silica microparticles, and by having a refractive index of 1.20 to 1.40 inclusive.
(FR) L'invention porte sur un film faiblement réfléchissant devant être formé sur un matériau de base transparent et sur un procédé de formation du film faiblement réfléchissant. De façon spécifique, l'invention porte sur un film faiblement réfléchissant qui peut avoir un faible indice de réfraction et un faible facteur de réflexion lorsqu'il est préparé sous la forme d'un film monocouche et qui peut être formé de façon à avoir une grande superficie d'une manière plus simple, sur un procédé pour la formation du film faiblement réfléchissant et sur un élément faiblement réfléchissant doté du film faiblement réfléchissant. L'invention porte sur un film faiblement réfléchissant comprenant des microparticules de silice et au moins un oxyde métallique choisi dans le groupe constitué par l'oxyde de tungstène, l'oxyde de niobium, l'oxyde de tantale, l'oxyde de titane, l'oxyde de zirconium, l'oxyde d'étain, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde de hafnium, l'oxyde de chrome, l'oxyde de cérium, l'oxyde de molybdène et l'oxyde de lanthane comme liant à hauteur de 5 à 40 % en masse inclus par rapport à la quantité des nanoparticules de silice et caractérisé en ce qu'il a un indice de réfraction de 1,20 à 1,40 inclus ; et sur un procédé pour la production du film faiblement réfléchissant.
(JA) 【課題】 透明基体上に形成する低反射膜およびその形成方法に関し、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。 【解決手段】 シリカ微粒子と、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化クロム、酸化セリウム、酸化モリブデンおよび酸化ランタンからなる群から選ばれた少なくとも1種の金属酸化物をシリカ微粒子に対し5質量%以上、40質量%以下、バインダーとして含有してなり、屈折率1.20以上、1.40以下であることを特徴とする低反射膜およびその形成方法。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)