このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2012008326) 原盤の製造方法、配向膜の製造方法、位相差板の製造方法および表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/008326 国際出願番号: PCT/JP2011/065318
国際公開日: 19.01.2012 国際出願日: 05.07.2011
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,B23K 26/00 (2006.01) ,B23K 26/06 (2006.01) ,G02F 1/13363 (2006.01) ,G02F 1/1337 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
B 処理操作;運輸
23
工作機械;他に分類されない金属加工
K
ハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26
レーザービームによる加工,例.溶接,切断,穴あけ
B 処理操作;運輸
23
工作機械;他に分類されない金属加工
K
ハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26
レーザービームによる加工,例.溶接,切断,穴あけ
02
加工物の位置決めまたは観察,例.照射点に関するもの;レーザービームの軸合せ,照準,焦点合せ
06
レーザービーム光の成形,例.マスクまたは多焦点装置によるもの
[IPC code unknown for ERROR IPC Code incorrect: invalid subgroup (0=>999999)!]
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1337
液晶分子の界面による配向,例.配向層
出願人:
デクセリアルズ株式会社 Dexerials Corporation [JP/JP]; 東京都品川区大崎一丁目11番2号 ゲートシティ大崎イーストタワー8階 Gate City Osaki East Tower 8F., 1-11-2, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032, JP (AllExceptUS)
星 光成 HOSHI Mitsunari [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
星 光成 HOSHI Mitsunari; JP
代理人:
特許業務法人 田治米国際特許事務所 TAJIME & TAJIME; 神奈川県川崎市多摩区三田1-26-28 ニューウェル生田ビル201号室 Room No. 201, New-Well-Ikuta Bldg., 26-28, Mita 1-chome, Tama-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2140034, JP
優先権情報:
2010-15780612.07.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A MASTER PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING AN ORIENTED FILM, METHOD FOR MANUFACTURING A RETARDATION PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GABARIT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ORIENTÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE LAME DE RETARD, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 原盤の製造方法、配向膜の製造方法、位相差板の製造方法および表示装置の製造方法
要約:
(EN) Disclosed are: a method for manufacturing an oriented film whereby a non-oriented thin-film layer can be omitted; a method for manufacturing a master plate that can be used in the manufacture of such an oriented film; a method for manufacturing a retardation plate using such an oriented film; and a method for manufacturing a display device provided with a retardation plate using such an oriented film. A mold (210) is irradiated and scanned by femtosecond laser light with a fluence of 0.04-0.12 J/cm², a repetition frequency of 1000 Hz, and a wavelength of 800 nm. Since this forms a mold (210) that is textured with a pitch of at most half the wavelength of the laser light (i.e., at most 400 nm), said mold (210) can be used to manufacture a substrate (11) (oriented film) that is textured with a pitch of at most half the wavelength of the laser light (i.e., at most 400 nm).
(FR) L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un film orienté, dans lequel une couche à film mince non orienté peut être omise; sur un procédé de fabrication d'un gabarit pouvant être utilisé pour la fabrication d'un tel film orienté; sur un procédé de fabrication d'une lame de retard utilisant un tel film orienté; et sur un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage pourvu d'une lame de retard utilisant un tel film orienté. Un moule (210) est irradié et balayé par une lumière laser femtoseconde ayant une fluence de 0,04-0,12 J/cm², une fréquence de répétition de 1000 Hz et une longueur d'onde de 800 nm. Comme cela forme un moule (210), qui est texturé avec un pas au plus égal à la moitié de la longueur d'onde de la lumière laser (c'est-à-dire au plus 400 nm), ledit moule (210) pouvant être utilisé pour fabriquer un substrat (11) (film orienté), qui est texturé avec un pas au plus égal à la moitié de la longueur d'onde de la lumière laser (c'est-à-dire au plus 400 nm).
(JA)  無配向薄膜層を省略することの可能な配向膜配向膜の製造方法、そのような配向膜の製造に使用可能な原盤の製造方法、そのような配向膜を用いた位相差板の製造方法、およびそのような配向膜を用いた位相差板を備えた表示装置の製造方法を提供する。0.04J/cm2以上0.12J/cm2以下のフルエンスのフェムト秒レーザ光を1000Hzの繰り返し周波数、波長800nmで型210に照射しつつ、走査する。これにより、レーザ光の波長の半分以下(400nm以下)のピッチの凹凸を有する型210が形成されるので、この型210を用いることにより、レーザ光の波長の半分以下(400nm以下)のピッチの凹凸を有する基板11(配向膜)を製造することができる。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130089662JPWO2012008326KR1020130129887