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1. (WO2012008282) ドライエッチング剤及びドライエッチング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/008282 国際出願番号: PCT/JP2011/064524
国際公開日: 19.01.2012 国際出願日: 24.06.2011
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01) ,C07C 21/18 (2006.01) ,C09K 13/08 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
21
ハロゲン原子を含有する非環式不飽和化合物
02
炭素―炭素二重結合を含有するもの
18
フッ素を含有するもの
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
13
エッチング,表面つや出しまたは酸洗い(ピクリング)用組成物
04
無機酸を含有するもの
08
ふっ素化合物を含有するもの
出願人:
セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP (AllExceptUS)
梅崎 智典 UMEZAKI, Tomonori; null (UsOnly)
日比野 泰雄 HIBINO, Yasuo; null (UsOnly)
毛利 勇 MORI, Isamu; null (UsOnly)
岡本 覚 OKAMOTO, Satoru; null (UsOnly)
菊池 亜紀応 KIKUCHI, Akiou; null (UsOnly)
発明者:
梅崎 智典 UMEZAKI, Tomonori; null
日比野 泰雄 HIBINO, Yasuo; null
毛利 勇 MORI, Isamu; null
岡本 覚 OKAMOTO, Satoru; null
菊池 亜紀応 KIKUCHI, Akiou; null
代理人:
小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi; 東京都中央区明石町1番29号 掖済会ビル SHIGA内外国特許事務所内 c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044, JP
優先権情報:
2010-15801012.07.2010JP
2010-24667002.11.2010JP
2011-13702221.06.2011JP
発明の名称: (EN) DRY ETCHING AGENT AND DRY ETCHING METHOD
(FR) AGENT DE GRAVURE SÈCHE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE SÈCHE
(JA) ドライエッチング剤及びドライエッチング方法
要約:
(EN) A dry etching agent which comprises (A) 1,3,3,3- tetrafluoropropene, (B) at least one additive gas selected from the group consisting of H2, O2, CO, O3, CO2, COCl2, CF3OF, COF2, NO2, F2, NF3, Cl2, Br2, I2, CH4, C2H2, C2H4, C2H6, C3H4, C3H6, C3H8, HI, HBr, HCl, NO, NH3, and YFn [wherein Y is Cl, Br or I; n is an integer satisfying the relationship: 1≤n≤7], and (C) an inert gas. The dry etching agent has little influence on the global environment, can dramatically widen the process window, and can accommodate, without a special substrate-exciting operation or the like, fabrication which necessitates a small side etch ratio and a high aspect ratio.
(FR) La présente invention a trait à un agent de gravure sèche qui comprend (A) 1,3,3,3- tétrafluoropropylène, (B) au moins un gaz adjuvant sélectionné dans le groupe comprenant H2, O2, CO, O3, CO2, COCl2, CF3OF, COF2, NO2, F2, NF3, Cl2, Br2, I2, CH4, C2H2, C2H4, C2H6, C3H4, C3H6, C3H8, HI, HBr, HCl, NO, NH3 et YFn [où Y est Cl, Br ou I ; n est un nombre entier satisfaisant la relation : 1 ≤ n ≤ 7], et (C) un gaz inerte. L'agent de gravure sèche n'a que peu d'influence sur l'environnement global, permet d'agrandir fortement la fenêtre de processus, et permet d'accommoder, sans opération spéciale d'excitation de substrat ou similaire, la fabrication qui nécessite un faible rapport de gravure latérale et un rapport largeur/longueur élevé.
(JA)  本発明のドライエッチング剤は、(A)1,3,3,3-テトラフルオロプロペンと、(B)H2、O2、CO、O3、CO2、COCl2、CF3OF、COF2、NO2、F2、NF3、Cl2、Br2、I2、CH4、C22,C24,C26、C34、C36、C38、HI、HBr、HCl、NO、NH3、及びYFn(式中、YはCl、Br、又はIを表し、nは整数を表し、1≦n≦7である。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の添加ガスと、(C)不活性ガスを含む。該ドライエッチング剤は、地球環境に対する影響が小さく、飛躍的にプロセスウインドウを広げることができ、特殊な基板の励起操作等なしにサイドエッチ率が小さく高アスペクト比が要求される加工にも対応できる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
US20130105728EP2595179KR1020130036320CN103003925