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1. (WO2012008277) ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムおよび有機光電変換素子
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/008277 国際出願番号: PCT/JP2011/064376
国際公開日: 19.01.2012 国際出願日: 23.06.2011
IPC:
B05D 7/24 (2006.01) ,B05D 3/06 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,H01L 31/04 (2006.01) ,H01L 51/42 (2006.01)
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
7
液体または他の流動性材料を特定の表面に適用するかまたは特定の液体または他の流動性材料を適用するのに特に適した,フロック加工以外の,方法
24
特定の液体または他の流動性材料を適用するためのもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
3
液体または他の流動性材料を適用する表面の前処理;適用されたコーティングの後処理,例.液体または他の流動性材料を続いて適用することに先だってなされるすでに適用されたコーティングの中間処理
06
放射線にさらすことによるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04
変換装置として使用されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
42
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応に特に適用されるもの;輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するか,またはこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
出願人:
コニカミノルタホールディングス株式会社 Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP (AllExceptUS)
森 孝博 MORI Takahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
森 孝博 MORI Takahiro; JP
優先権情報:
2010-15946414.07.2010JP
発明の名称: (EN) GAS BARRIER FILM PRODUCTION METHOD, GAS BARRIER FILM, AND ORGANIC PHOTOELECTRIC TRANSDUCER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PELLICULE PERMÉABLE AU GAZ, PELLICULE PERMÉABLE AU GAZ ET TRANSDUCTEUR PHOTOÉLECTRIQUE ORGANIQUE
(JA) ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムおよび有機光電変換素子
要約:
(EN) Disclosed is a gas barrier film production method comprising: a coating step in which an application liquid containing a polysilazane compound is applied on a substrate to form a coating film; and an ultraviolet irradiation step in which the substrate is moved relative to a light source, and vacuum ultraviolet light is applied to the coating film, thereby forming a gas barrier layer. In the ultraviolet irradiation step, the illuminance of the vacuum ultraviolet light received by the coating film on the coating film surface is not more than 160 mW/cm2, and the amount of energy of the vacuum ultraviolet light on the coating film surface received during an interval (T), in which the illuminance of the vacuum ultraviolet light on the coating film surface is between 50 mW/cm2 and 160 mW/cm2, is between 180 mJ/cm2 and 1800 mJ/cm2. The gas barrier film production method is suitable for the roll-to-roll production method, and enables gas barrier films to be produced with excellent productivity, and excellent gas barrier performance.
(FR) L'invention porte sur un procédé de fabrication de pellicule perméable au gaz, lequel procédé comprend : une étape de revêtement dans laquelle un liquide d'application contenant un composé de polysilazane est appliqué sur un substrat pour former une pellicule protectrice; et une étape d'irradiation aux ultraviolets dans laquelle le substrat est déplacé par rapport à une source de lumière, et dans laquelle une lumière ultraviolette du vide est appliquée sur la pellicule protectrice, permettant ainsi de former une couche perméable au gaz. Dans l'étape d'irradiation aux ultraviolets, l'éclairage de la lumière ultraviolette du vide reçu par la pellicule protectrice sur la surface de pellicule protectrice n'est pas supérieur à 160 mW/cm2, et la quantité d'énergie de la lumière ultraviolette du vide sur la surface de pellicule protectrice reçue pendant un intervalle (T), dans lequel l'éclairage de la lumière ultraviolette du vide sur la surface de pellicule protectrice est entre 50 mW/cm2 et 160 mW/cm2, est entre 180 mJ/cm2 et 1800 mJ/cm2. Le procédé de fabrication de pellicule perméable au gaz est approprié pour le procédé de fabrication rouleau à rouleau, et permet à des pellicules perméables au gaz d'être fabriquées avec une excellente productivité et d'excellentes performances en termes de perméabilité au gaz.
(JA)  本発明は、基材上にポリシラザン化合物を含有する塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程および、基材を光源に対して相対的に移動させ、真空紫外線を塗膜に照射して、ガスバリア性層を形成する紫外線照射工程を有し、紫外線照射工程において、塗膜が受ける塗膜面での真空紫外線の照度は160mW/cm以下であり、塗膜面での真空紫外線の照度が50mW/cm以上、160mW/cm以下である期間Tを有し、期間T内に受ける、塗膜面における真空紫外線のエネルギー量が、180mJ/cm以上1800mJ/cm以下であるガスバリアフィルムの製造方法であり、ロール・トゥー・ロール方式の生産適性を有し、生産性に優れ、ガスバリア性能に優れるガスバリアフィルムを製造することができるガスバリアフィルムの製造方法が提供できる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130092239JPWO2012008277