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1. (WO2012008041) 強誘電体膜、ゾルゲル溶液、成膜方法及び強誘電体膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/008041 国際出願番号: PCT/JP2010/062032
国際公開日: 19.01.2012 国際出願日: 12.07.2010
予備審査請求日: 22.08.2011
IPC:
H01B 3/00 (2006.01) ,C01G 23/00 (2006.01) ,H01B 3/12 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
3
絶縁材料を特徴とする絶縁体または絶縁物体;絶縁性または誘電性特性に対する材料の選択
C 化学;冶金
01
無機化学
G
サブクラスC01DまたはC01Fに包含されない金属を含有する化合物
23
チタン化合物
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
3
絶縁材料を特徴とする絶縁体または絶縁物体;絶縁性または誘電性特性に対する材料の選択
02
主として非有機物質からなるもの
12
セラミック
出願人:
株式会社ユーテック YOUTEC CO., LTD. [JP/JP]; 千葉県流山市西平井956番地の1 956-1, Nishi-hirai, Nagareyama-shi, Chiba 2700156, JP (AllExceptUS)
木島 健 KIJIMA, Takeshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
本多 祐二 HONDA, Yuuji [JP/JP]; JP (UsOnly)
茂内 健和 SHIGENAI, Takekazu [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
木島 健 KIJIMA, Takeshi; JP
本多 祐二 HONDA, Yuuji; JP
茂内 健和 SHIGENAI, Takekazu; JP
代理人:
柳瀬 睦肇 YANASE, Mutsuyasu; 東京都新宿区高田馬場1丁目32番14号 UKビル8階 進歩国際特許事務所 PATENT ATTORNEYS SHINPO, 8th Floor, UK Building, 1-32-14, Takadanobaba, Shinjuku-ku, Tokyo 1690075, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) FERROELECTRIC FILM, SOL-GEL SOLUTION, FILM-FORMING METHOD AND FERROELECTRIC FILM MANUFACTURING METHOD
(FR) FILM FERROÉLECTRIQUE, SOLUTION SOL-GEL, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM FERROÉLECTRIQUE
(JA) 強誘電体膜、ゾルゲル溶液、成膜方法及び強誘電体膜の製造方法
要約:
(EN) Disclosed is a method of manufacturing a ferromagnetic film comprising lead-free materials and represented by (Baaα1-a)(Tibβ1-b)O3 (wherein α is one or more metallic elements from the following: Mg (magnesium), Ca2+ (calcium), Sr (strontium), Li (lithium), Na (sodium), K (potassium), Rb (rubidium), Cs (cesium), Mg (magnesium), Ca2+ (calcium), and Sr (strontium); and β is one or more metallic elements from the following: Ti (titanium), V (vanadium), Cr (chromium), Mn (manganese), Fe (iron), Co (cobalt), Ni (nickel), Cu (copper), Zr (zirconium), Nb (niobium), Mo (molybdenum), Ru (ruthenium), Rh (rhodium), Pd (palladium), Ag (silver), Sc (scandium), Y (yttrium), La (lanthanum), Ce (cerium), Pr (praseodymium), Nd (neodymium), Sm (samarium), Eu (europium), Gd (gadolinium), Tb (terbium), Dy (dysprosium), Ho (holmium), Er (erbium), Tm (thulium), Yb (ytterbium), Lu (lutetium), Ha (hafnium), and Ta ​​(tantalum)).
(FR) L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un film ferromagnétique comprenant des matériaux sans plomb et représentés par la formule (Baaá1-a) (Tibâ1-b) O3 (formule dans laquelle á représente un ou plusieurs éléments métalliques choisis parmi les éléments suivants : Mg (magnésium), Ca2+ (calcium), Sr (strontium), Li (lithium), Na (sodium), K (potassium), Rb (rubidium), Cs (césium), Mg (magnésium), Ca2+ (calcium) et Sr (strontium) ; et â représente un ou plusieurs éléments métalliques choisis parmi les suivants : Ti (titane), V (vanadium), Cr (chrome), Mn (manganèse), Fe (fer), Co (cobalt), Ni (nickel), Cu (cuivre), Zr (zirconium), NB (niobium), Mo (molybdène), Ru (ruthénium), Rh (rhodium), Pd (palladium), Ag (argent), Sc (scandium), Y (yttrium), La (lanthane), Ce (cérium), Pr (praséodyme), Nd (néodyme), Sm (samarium), Eu (europium), Gd (gadolinium), Tb (terbium), Dy (dysprosium), Ho (holmium), Er (erbium), Tm (thulium), Yb (l'ytterbium), Lu (lutécium), Ha (hafnium), et Ta (tantale)).
(JA)  非鉛の材料からなる強誘電体膜を作製する。本発明の一態様は、(Baaα1-a)(Tibβ1-b)O3で(α:Mgマグネシウム、Ca2+カルシウム、Srストロンチウム、Liリチウム、Naナトリウム、Kカリウム、Rbルビジウム、Csセシウム、Mgマグネシウム、Ca2+カルシウム、Srストロンチウムの内一つ以上の金属元素、β:Tiチタン、Vバナジウム、Crクロム、Mnマンガン、Fe鉄、Coコバルト、Niニッケル、Cu銅、Zrジルコニウム、Nbニオブ、Moモリブデン、Ruルテニウム、Rhロジウム、Pdパラジウム、Ag銀、Scスカンジウム、Yイットリウム、Laランタン、Ceセリウム、Prプラセオジウム、Ndネオジウム、Smサマリウム、Euユウロピウム、Gdガドリニウム、Tbテルビウム、Dyジスプロシウム、Hoホルミウム、Erエルビウム、Tmツリウム、Ybイッテルビウム、Luルテチウム、Haハフニウム、Taタンタルの内一つ以上の金属元素)で表わされることを特徴とする強誘電体膜である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130165313JPWO2012008041