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1. (WO2012004950) ペリクル膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/004950 国際出願番号: PCT/JP2011/003705
国際公開日: 12.01.2012 国際出願日: 29.06.2011
IPC:
G03F 1/14 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
14
構造の細部に特徴のある原稿,例.支持体,被覆層,ペリクル枠
出願人:
三井化学株式会社 Mitsui Chemicals, Inc. [JP/JP]; 東京都港区東新橋1丁目5番2号 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057117, JP (AllExceptUS)
河関 孝志 KOZEKI, Takashi; null (UsOnly)
発明者:
河関 孝志 KOZEKI, Takashi; null
代理人:
鷲田 公一 WASHIDA, Kimihito; 東京都新宿区西新宿1-23-7 新宿ファーストウエスト8階 8th Floor, Shinjuku First West Bldg., 1-23-7, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
優先権情報:
2010-15619408.07.2010JP
発明の名称: (EN) PELLICLE FILM
(FR) FILM PELLICULE
(JA) ペリクル膜
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to produce a pellicle film, which is suppressed in light deterioration or photodecomposition due to lithography light exposure, by simpler processes. Specifically disclosed is a pellicle film for lithography containing an amorphous fluoropolymer, which is characterized by containing 5-800 ppm by mass of a fluorine-based solvent. Also specifically disclosed is a method for producing a pellicle film, which comprises: a step A wherein a coating film of a solution that contains an amorphous fluoropolymer and a fluorine-based solvent is formed; and a step B wherein the fluorine-based solvent in the coating film is removed. The method for producing a pellicle film is characterized in that 5-800 ppm by mass of the fluorine-based solvent is caused to remain in the coating film in the step B.
(FR) L'invention concerne la production d'un film pellicule, qui est détruit par détérioration lumineuse ou par photodécomposition due à une exposition lumineuse lithographique, par des processus plus simples. En particulier l'invention concerne un film pellicule pour la lithographie contenant un fluoropolymère amorphe, caractérisé par le fait qu'il contient 5 à 800 ppm par masse d'un solvant à base de fluorine. L'invention concerne également un procédé pour produire un film pellicule, qui comprend : une étape A selon laquelle un film protecteur d'une solution qui contient un fluoropolymère amorphe et un solvant à base de fluorine est formé ; et une étape B selon laquelle le solvant à base de fluorine dans le film protecteur est éliminé. Le procédé pour produire un film pellicule est caractérisé en ce que 5 à 800 ppm par masse du solvant à base de fluorine sont amenées à rester dans le film protecteur à l'étape B.
(JA)  本発明はリソグラフィ露光による光劣化または光分解が抑制されたペリクル膜を、より簡便に製造することを目的とする。 具体的には、非晶質フルオロポリマーを含有するリソグラフィ用ペリクル膜であって、5~800質量ppmのフッ素系溶剤を含有するペリクル膜を提供する。また、非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤を含む溶液の塗布膜を成膜する工程Aと、前記塗布膜中のフッ素系溶媒を除去する工程Bとを含む、ペリクル膜の製造方法であって、前記工程Bにおいて、前記塗布膜中に5~800質量ppmのフッ素系溶媒を残留させるペリクル膜の製造方法を提供する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130095417EP2592474CN102959468SG186784JPWO2012004950KR1020130042545