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1. (WO2012002526) 電解銅箔及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002526 国際出願番号: PCT/JP2011/065147
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 01.07.2011
IPC:
C25D 1/04 (2006.01) ,C22C 9/00 (2006.01) ,H01M 4/66 (2006.01)
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
1
電鋳
04
線状体;ストリップ;箔
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
9
銅基合金
H 電気
01
基本的電気素子
M
化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方法または手段,例.電池
4
電極(電気分解用電極C25)
02
活物質からなるまたは活物質を含有した電極
64
担体または集電体
66
物質の選択
出願人:
三井金属鉱業株式会社 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都品川区大崎一丁目11番1号 11-1, Osaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584, JP (AllExceptUS)
朝長 咲子 TOMONAGA, Sakiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
稲場 慎太郎 INABA, Shintaro [JP/JP]; JP (UsOnly)
吉岡 淳志 YOSHIOKA, Junshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
朝長 咲子 TOMONAGA, Sakiko; JP
稲場 慎太郎 INABA, Shintaro; JP
吉岡 淳志 YOSHIOKA, Junshi; JP
代理人:
吉村 勝博 YOSHIMURA, Katsuhiro; 埼玉県さいたま市大宮区桜木町2丁目5-4 大宮Fビル 吉村国際特許事務所 Yoshimura International Patent Office, Omiya F Bldg., 5-4, Sakuragicho 2-chome, Omiya-ku, Saitama-shi, Saitama 3300854, JP
優先権情報:
2010-15150301.07.2010JP
発明の名称: (EN) ELECTRODEPOSITED COPPER FOIL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) FEUILLE DE CUIVRE ÉLECTROLYTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 電解銅箔及びその製造方法
要約:
(EN) Disclosed is an electrodeposited copper foil which can exhibit various properties stably even when the chlorine content therein is varied. Specifically disclosed is an electrodeposited copper foil produced by electrolyzing a copper electrolytic solution, which is characterized in that the iodine content in the electrodeposited copper foil is 0.003 mass% or more, more preferably 0.003 mass% to 0.03 mass%. Preferably, the chlorine content in the electrodeposited copper foil is 0.0018 mass% or less.
(FR) L'invention concerne une feuille de cuivre électrolytique qui peut présenter diverses propriétés de façon stable, même quand la teneur en chlore y varie. Une feuille de cuivre électrolytique spécifiquement décrite est produite en électrolysant une solution électrolytique de cuivre. De préférence, la teneur en iode y est d'au moins 0,003 % en masse, mieux de 0,003 à 0,03 % en masse, et la teneur en chlore n'y dépasse pas 0,0018 % en masse.
(JA)  塩素含有量が変動しても、安定した諸特性を示す電解銅箔の提供を目的とする。そして、この目的を達成するため、銅電解液を電解することにより得られる電解銅箔であって、電解銅箔中のヨウ素含有量が0.003質量%以上であり、より好ましくは当該ヨウ素含有量が0.003質量%~0.03質量%の範囲であることを特徴とする電解銅箔を採用する。更に、当該電解銅箔の塩素含有量が、0.0018質量%以下の範囲にある事が好ましい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2012002526KR1020130006504KR1020140007507CN105386088CN102959135