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1. (WO2012002479) 反応種供給装置および表面等処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002479 国際出願番号: PCT/JP2011/065008
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 30.06.2011
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,B01J 19/08 (2006.01) ,B08B 7/00 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
19
化学的,物理的,または物理化学的プロセス一般;それらに関連した装置
08
電気または波動エネルギーあるいは粒子線放射を直接適用したプロセス;そのための装置
B 処理操作;運輸
08
清掃
B
清掃一般;汚れ防止一般
7
このサブクラスの単一のグループあるいは他の単一のサブクラスに分類されない方法による清掃
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
国立大学法人名古屋大学 National University Corporation Nagoya University [JP/JP]; 愛知県名古屋市千種区不老町1番 1, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya-shi, Aichi 4648601, JP (AllExceptUS)
NUエコ・エンジニアリング株式会社 NU Eco Engineering Co., Ltd. [JP/JP]; 愛知県みよし市黒笹いずみ二丁目3番地8 2-3-8, Kurozasaizumi, Miyoshi-shi, Aichi 4700232, JP (AllExceptUS)
富士機械製造株式会社 FUJI MACHINE MFG. CO., LTD. [JP/JP]; 愛知県知立市山町茶碓山19番地 19, Chausuyama, Yama-machi, Chiryu-shi, Aichi 4728686, JP (AllExceptUS)
堀 勝 HORI, Masaru [JP/JP]; JP (UsOnly)
加納 浩之 KANO, Hiroyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
森 一明 MORI, Kazuaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
中根 伸幸 NAKANE, Nobuyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
渡邊 智弘 WATANABE, Toshimitsu [JP/JP]; JP (UsOnly)
五十褄 丈二 ISOZUMI, Joji [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
堀 勝 HORI, Masaru; JP
加納 浩之 KANO, Hiroyuki; JP
森 一明 MORI, Kazuaki; JP
中根 伸幸 NAKANE, Nobuyuki; JP
渡邊 智弘 WATANABE, Toshimitsu; JP
五十褄 丈二 ISOZUMI, Joji; JP
代理人:
特許業務法人中部国際特許事務所 CHUBU PATENT OFFICE; 愛知県名古屋市中村区名駅4丁目2番25号 名古屋ビルディング東館 7階 Nagoya-Bldg. Higashikan 7th Floor, 2-25, Meieki 4-chome, Nakamura-ku, Nagoya-shi, Aichi 4500002, JP
優先権情報:
2010-14952530.06.2010JP
発明の名称: (EN) REACTIVE SPECIES SUPPLY DEVICE AND DEVICE FOR TREATING SURFACES AND THE LIKE
(FR) DISPOSITIF POUR DÉLIVRER UNE ESPÈCE RÉACTIVE POUR LE TRAITEMENT DE SURFACES ET SIMILAIRES
(JA) 反応種供給装置および表面等処理装置
要約:
(EN) Disclosed are a reactive species supply device and a device for treating surfaces and the like, with which the likelihood of discharge between an electrode and a workpiece is reduced. With regard to an individual passage (81B), which is a constituent element of a plasma outlet passage provided between a discharge space (42B) and a plasma outlet port (16), a main passage is formed by an X-portion (81BX), a portion (81BZo) which is closer to the discharge space than a connection section (M) of an X-portion (81BXX) of a Z-portion (81BZ), the X-portion (81BXX), a diffuser (82B), and a slit (86) etc., and a branch passage is formed by a portion (81BZP) closer to the opposite side of the discharge space than the connection section (M) of the Z-direction portion (81BZ). An earth plate (90) is provided in a state blocking the branch passage (81BZP). Since the branch passage (81BZP) and the portion (81BZo) of the main passage are positioned on the same straight line, discharge takes place with respect to the earth plate (90), but does not easily take place with respect to a workpiece (W).
(FR) L'invention concerne un dispositif pour délivrer une espèce réactive et un dispositif de traitement de surfaces et similaires avec lequel la probabilité de décharge entre une électrode et une pièce à usiner est réduite. Un passage individuel (81B), qui est un élément constitutif d'un passage de sortie de plasma réalisé entre un espace de décharge (42B) et un port de sortie de plasma (16), se compose d'un passage principal qui est formé par une portion X (81BX), une portion (81BZo) qui est plus proche de l'espace de décharge qu'une section de raccordement (M) d'une portion X (81BXX) à une portion Z (81BZ), la portion X (81BXX), un diffuseur (82B) et une fente (86) etc., et d'un passage de dérivation qui est formée par une portion (81BZP) plus proche du côté opposé de l'espace de décharge que la section de connexion (M) de la portion dans la direction Z (81BZ). Il existe une plaque de masse (90) placée dans une position qui bloque le passage de dérivation (81BZP). Comme le passage de dérivation (81BZP) et la portion (81BZo) du passage principal sont positionnés sur la même ligne droite, la décharge a lieu par rapport à la plaque de masse (90), mais ne se produit pas facilement par rapport à une pièce à usiner (W).
(JA) 電極とワークとの間で放電が起き難くする。放電空間42Bとプラズマ出力口16との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路81Bに関して、X部分81BX、Z部分81BZのX部分81BXXの接続部Mより放電空間側の部分81BZO、X部分81BXX、拡散器82B、スリット86等により主通路が構成され、Z方向部分81BZの接続部Mより放電空間とは反対側の部分81BZPにより分岐通路が構成される。アース板90は、分岐通路81BZPを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路81BZPと主通路の部分81BZOとは同一直線上に位置するため、アース板90との間で放電が起き、ワークWとの間では起き難くすることができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130168361CN103120030IN220/DELNP/2013