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1. (WO2012002468) 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002468 国際出願番号: PCT/JP2011/064982
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 29.06.2011
IPC:
C03C 23/00 (2006.01) ,B08B 3/02 (2006.01) ,B08B 7/04 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
23
繊維やフィラメントの形態をとらない繊維以外のガラスのその他の表面処理
B 処理操作;運輸
08
清掃
B
清掃一般;汚れ防止一般
3
液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃
02
ジェットまたはスプレーの力による清掃
B 処理操作;運輸
08
清掃
B
清掃一般;汚れ防止一般
7
このサブクラスの単一のグループあるいは他の単一のサブクラスに分類されない方法による清掃
04
操作の組合せによるもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
出願人:
安瀚視特股▲分▼有限公司 AvanStrate Taiwan Inc.; 台南市安南区工業三路8号 No.8, Industry III Road Annan, Tainan 709, TW (AllExceptUS)
AvanStrate株式会社 AvanStrate Inc. [JP/JP]; 三重県四日市市千歳町2番地 2, Chitose-cho, Yokkaichi-shi, Mie 5100051, JP (AllExceptUS)
王 文凱 WANG, Wen Kai; TW (UsOnly)
邱 文籃 CHIU, Wen Lan; TW (UsOnly)
朱 家賢 CHU, Chia Hsien; TW (UsOnly)
高 榮志 KAO, Jung Chih; TW (UsOnly)
邱 晉億 CHIU, Chin Yi; TW (UsOnly)
発明者:
王 文凱 WANG, Wen Kai; TW
邱 文籃 CHIU, Wen Lan; TW
朱 家賢 CHU, Chia Hsien; TW
高 榮志 KAO, Jung Chih; TW
邱 晉億 CHIU, Chin Yi; TW
代理人:
加藤 秀忠 KATO, Hidetada; 大阪府大阪市北区南森町1丁目4番19号 サウスホレストビル 新樹グローバル・アイピー特許業務法人 SHINJYU GLOBAL IP, South Forest Bldg., 1-4-19, Minamimori-machi, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300054, JP
優先権情報:
2010-14832329.06.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE VERRE POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
要約:
(EN) Disclosed is a method for manufacturing a glass substrate for a liquid crystal display device, wherein frequency of generation of watermarks after removing a liquid such as a detergent with an air jet is significantly reduced in comparison to that in conventional methods. In a washing process, the liquid such as a detergent is sprayed onto the surface of the glass substrate (3) to wash. Thereafter, in a removing process an air jet extending long is supplied from a slit (10g) of the nozzle assembly (10) of an air jetting device (1) onto the surface of the glass substrate (3) to remove the liquid such as a detergent. The air speed of the air jet from the slit (10g) is adjusted so as to be uniform in an extending direction by use of an air speed measuring device (40) and an air speed measuring tool (30).
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de verre pour un dispositif d'affichage à cristaux liquides, dans lequel la fréquence de génération des traces d'eau après élimination d'un liquide comme un détergent avec un jet d'air est significativement réduite par comparaison avec celle des procédés classiques. Dans un procédé de lavage, le liquide comme un détergent est pulvérisé sur la surface du substrat de verre (3) à laver. Après quoi, dans un procédé d'élimination, un long jet d'air est fourni par une fente (10g) de l'assemblage de la tuyère (10) d'un dispositif de jet d'air (1) sur la surface du substrat de verre (3) pour éliminer le liquide comme un détergent. La vitesse de l'air du jet d'air de la fente (10g) est ajustée de manière à être uniforme dans une direction d'extension par l'utilisation d'un dispositif de mesure de la vitesse de l'air (40) et d'un outil de mesure de la vitesse de l'air (30).
(JA) 噴出気流によって洗剤などの液体を除去した後にウォーターマークが生じる頻度を従来に比べて大幅に低減することができる液晶表示装置用ガラス基板の製造方法を提供する。洗浄工程において、ガラス基板(3)の表面に洗剤などの液体を吹きかけて洗浄を行う。その後、除去工程において、ガラス基板(3)の表面に対して、長く延びる噴出気流をエアー噴出装置(1)のノズル組立体(10)のスリット(10g)から供給して洗剤などの液体を除去する。このスリット(10g)から噴射される噴出気流の風速は、風速測定装置(40)と風速測定冶具(30)を用いて、延在する方向に均一になるように調整される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
CN102971269JPWO2012002468