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1. (WO2012002423) 有機薄膜層の形成方法、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002423 国際出願番号: PCT/JP2011/064894
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 29.06.2011
IPC:
H05B 33/10 (2006.01) ,B05D 3/02 (2006.01) ,F26B 13/30 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
3
液体または他の流動性材料を適用する表面の前処理;適用されたコーティングの後処理,例.液体または他の流動性材料を続いて適用することに先だってなされるすでに適用されたコーティングの中間処理
02
焼き付けによるもの
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
26
乾燥
B
固体材料または固形物から液体を除去することによる乾燥
13
前送りする運動を伴う織物,繊維,織糸およびその他の長尺材料を乾燥するための機械または装置
24
加熱を伴わない乾燥プロセスを用いる装置の構成
30
吸引を適用するためのもの,例.穴抜きローラを通すもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
出願人:
コニカミノルタホールディングス株式会社 Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP (AllExceptUS)
藏方 慎一 KURAKATA Shinichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
川邉 茂寿 KAWABE Shigetoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
藏方 慎一 KURAKATA Shinichi; JP
川邉 茂寿 KAWABE Shigetoshi; JP
優先権情報:
2010-15086801.07.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMATION OF ORGANIC THIN FILM LAYER, AND METHOD FOR PRODUCTION OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE FILM FIN ORGANIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 有機薄膜層の形成方法、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
要約:
(EN) Disclosed are: an organic thin film layer formation method for forming at least one organic thin film layer having a stable film thickness by applying a coating solution for organic thin film layer formation use by a coating mode on a strip-shaped base material that is conveyed continuously, without causing drying unevenness; and a method for producing an organic EL element by the aforementioned method. Specifically disclosed is an organic thin film layer formation method which comprises a coating step of coating a coating solution for organic thin film layer formation use on a strip-shaped base material that is supported on a back roll and is conveyed by the back roll and a drying step of drying a coating film that has been formed in the coating step, and is characterized in that the drying step is carried out using a drying apparatus which is equipped with the back roll and a drying chamber placed on the back roll.
(FR) L'invention concerne un procédé de formation d'une couche de film fin organique permettant de former au moins une couche de film fin organique ayant une épaisseur de film stable, ceci en appliquant une solution de revêtement, utilisée pour la formation de couche de film fin organique, selon un procédé de revêtement sur un matériau de base en forme de bande qui se déplace de manière continue, et ceci sans causer d'irrégularités de séchage. L'invention concerne également un procédé de production d'un élément EL organique selon le procédé susmentionné. L'invention concerne plus précisément un procédé de formation d'une couche de film fin organique qui comprend une étape de revêtement consistant à appliquer une solution de revêtement utilisée pour la formation de couche de film fin organique sur un matériau de base en forme de bande qui est supporté par un galet arrière et qui est transporté par ce dernier, et une étape de séchage consistant à sécher le film de revêtement formé lors de l'étape de revêtement, caractérisé en ce que l'étape de séchage se fait en utilisant un appareil de séchage qui est équipé du galet arrière et d'une chambre de séchage placée sur le galet arrière.
(JA)  連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する少なくとも1層の有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機EL素子の製造方法の提供するため、バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
JPWO2012002423