国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。フィードバック & お問い合わせ
1. (WO2012002413) 光硬化性インプリント用組成物及び該組成物を用いたパターンの形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002413 国際出願番号: PCT/JP2011/064868
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 29.06.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社トクヤマ TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 山口県周南市御影町1-1 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648, JP (AllExceptUS)
梅川 秀喜 UMEKAWA Hideki [JP/JP]; JP (UsOnly)
川端 雄一郎 KAWABATA Yuichiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
梅川 秀喜 UMEKAWA Hideki; JP
川端 雄一郎 KAWABATA Yuichiro; JP
代理人:
竹沢 荘一 TAKEZAWA Soichi; 東京都港区新橋1丁目15番5号 第1コーワビル First Kowa Bldg., 15-5, Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
優先権情報:
2010-15236502.07.2010JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR PHOTOCURABLE IMPRINT, AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN USING THE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DESTINÉE À UNE EMPREINTE PHOTODURCISSABLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF À L'AIDE DE LA COMPOSITION
(JA) 光硬化性インプリント用組成物及び該組成物を用いたパターンの形成方法
要約:
(EN) Disclosed is a composition for a photocurable imprint, which has good pattern transferring properties and good mold (pattern formation surface) release properties regardless of the type of a polymerizable monomer contained therein, and therefore can form a pattern having excellent shape with high repeatability; and a method for forming a pattern on a substrate by optical imprinting, which uses the composition. The composition for a photocurable imprint comprises (A) a polymerizable monomer having a (meth)acrylic group, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a hyperbranch polymer produced by polymerizing a polymerizable monomer having a (meth)acrylic group. Preferably, the composition contains 0.1-10 parts by mass of the photopolymerization initiator (B) and 0.1-10 parts by mass of the hyperbranche polymer (C) relative to 100 parts by mass of the polymerizable monomer (A).
(FR) La présente invention a trait à une composition destinée à une empreinte photodurcissable, qui est dotée de bonnes propriétés de transfert de motif et de bonnes propriétés de démoulage (le moule étant la surface de formation de motif) quel que soit le type de monomère polymérisable contenu dans celle-ci, et qui peut, par conséquent, former un motif doté d'une excellente forme avec une répétabilité élevée ; et à un procédé de formation d'un motif sur un substrat par empreinte optique, qui utilise la composition. La composition destinée à une empreinte photodurcissable comprend (A) un monomère polymérisable doté d'un groupe (méth)acrylique, (B) un initiateur de photopolymérisation, et (C) un polymère hyperbranche produit au moyen de la polymérisation d'un monomère polymérisable doté d'un groupe (méth)acrylique. De préférence, la composition contient de 0,1 à 10 parties en masse de l'initiateur de photopolymérisation (B) et de 0,1 à 10 parties en masse du polymère hyperbranche (C) par rapport à 100 parties en masse du monomère polymérisable (A).
(JA) 重合性単量体の種類にかかわらず、パターンの転写性がよく、さらに、金型(パターン形成面)との剥離性がよく、従って、再現性に優れた形状のパターンを形成できる光硬化性インプリント用組成物、及び該組成物を使用する、光インプリントによる基板上でのパターンの形成法を提供する。光硬化性インプリント用組成物は、(メタ)アクリル基を有する重合性単量体(A)、光重合開始剤(B)及び(メタ)アクリル基を有する重合性単量体を重合して得られるハイパーブランチポリマー(C)を含んでなる。該組成物は、重合性単量体(A)100質量部に対して、光重合開始剤(B)0.1~10質量部、ハイパーブランチポリマー(C)0.1~10質量部を含有することが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
Also published as:
US20130099423CN102959679SG186878JPWO2012002413KR1020130093590