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1. (WO2012002189) バルサルタンの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002189 国際出願番号: PCT/JP2011/064032
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 20.06.2011
予備審査請求日: 22.12.2011
IPC:
C07D 257/04 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
257
異項原子として4個の窒素原子のみをもつ環を含有する複素環式化合物
02
他の環と縮合していないもの
04
5員環
出願人:
株式会社トクヤマ TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 山口県周南市御影町1-1 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648, JP (AllExceptUS)
宮奥 隆行 MIYAOKU, Takayuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
田中 健次 TANAKA, Kenji [JP/JP]; JP (UsOnly)
山本 博將 YAMAMOTO, Hiromasa [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
宮奥 隆行 MIYAOKU, Takayuki; JP
田中 健次 TANAKA, Kenji; JP
山本 博將 YAMAMOTO, Hiromasa; JP
代理人:
高畑 靖世 TAKAHATA Yasuyo; 東京都豊島区東池袋3丁目1番4号 メゾンサンシャイン1004号 Room 1004, Maison-Sunshine, 1-4, Higashi-Ikebukuro 3-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700013, JP
優先権情報:
2010-14889230.06.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING VALSARTAN
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE VALSARTAN
(JA) バルサルタンの製造方法
要約:
(EN) Disclosed is a method for producing valsartan having a valsartan enantiomer content of 0.25% or less and an organic solvent content of 1000 ppm or less, comprising drying crude valsartan having a valsartan enantiomer content of 0.20% or less and an organic solvent content of 3000-25000 ppm inclusive at a temperature of 50-65ºC. The crude valsartan is obtained by, for example, drying a wet substance of valsartan having a valsartan enantiomer content of 0.20% or less and an organic solvent content of 150000-600000 ppm inclusive obtained by depositing synthetically obtained valsartan in an organic solvent and separating the deposited crystals of valsartan at a temperature lower than 50ºC.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de valsartan ayant une teneur en énantiomère de valsartan de 0,25 % ou moins et une teneur en solvant organique de 1 000 ppm ou moins, qui comprend le séchage de valsartan brut ayant une teneur en énantiomère de valsartan de 0,20 % ou moins et une teneur en solvant organique de 3 000 à 25 000 ppm inclus à une température de 50 à 65 °C. Le valsartan brut est obtenu par exemple par séchage d'une substance humide de valsartan ayant une teneur en énantiomère de valsartan de 0,20 % ou moins et une teneur en solvant organique de 150 000 à 600 000 ppm inclus, obtenue par dépôt de valsartan obtenu par synthèse dans un solvant organique et séparation des cristaux déposés de valsartan à une température inférieure à 50 °C.
(JA) 本発明により、バルサルタンのエナンチオマー含有量が0.20%以下、有機溶媒含有量が3000ppm以上25000ppm以下の粗バルサルタンを、50~65℃の温度で乾燥することを特徴とする、バルサルタンのエナンチオマー含有量が0.25%以下、有機溶媒含有量が1000ppm以下のバルサルタンの製造方法が開示される。 粗バルサルタンは、例えば、合成して得られるバルサルタンを有機溶媒中で析出させた後、前記析出したバルサルタンの結晶を分離することにより得られる、バルサルタンのエナンチオマー含有量が0.20%以下、有機溶媒含有量が150000ppm以上600000ppm以下のバルサルタンの湿体を、50℃未満の温度で乾燥することにより得られる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2012002189