このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2012002128) レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002128 国際出願番号: PCT/JP2011/063264
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 09.06.2011
IPC:
B41N 1/12 (2006.01) ,B41C 1/05 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
C
印刷版面の製作または複製方法
1
印刷版の製作
02
彫刻;そのためのヘッド
04
電気情報信号によって制御されるヘッドを用いるもの
05
発熱彫刻ヘッド,例.レーザービーム,電子ビーム
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP (AllExceptUS)
山下 克宏 YAMASHITA Katsuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
山下 克宏 YAMASHITA Katsuhiro; JP
代理人:
野口 恭弘 NOGUCHI Yasuhiro; 東京都港区虎ノ門1丁目16番4号 アーバン虎ノ門ビル 野口特許事務所 NOGUCHI PATENT FIRM Urban Toranomon Bldg. 16-4, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050001, JP
優先権情報:
2010-14766729.06.2010JP
発明の名称: (EN) RESIN COMPOSITION FOR LASER ENGRAVING, RELIEF PRINTING ORIGINAL PLATE FOR LASER ENGRAVING, METHOD FOR PRODUCING THE RELIEF PRINTING ORIGINAL PLATE FOR LASER ENGRAVING, RELIEF PRINTING PLATE, AND METHOD FOR PRODUCING THE RELIEF PRINTING PLATE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUR GRAVURE AU LASER, PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF POUR GRAVURE AU LASER, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE LA PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF POUR GRAVURE AU LASER, PLAQUE D'IMPRESSION EN RELIEF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE LA PLAQUE D'IMPRESSION EN RELIEF
(JA) レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法
要約:
(EN) Disclosed are: a resin composition for laser engraving, which provides a film having excellent compositional uniformity and excellent toughness and is capable of providing a relief printing plate that is reduced in fracture of small-sized dots; a relief printing original plate which uses the resin composition for laser engraving; a method for producing a relief printing plate, which uses the relief printing original plate; and a relief printing plate which is obtained by the method. Specifically disclosed is a resin composition for laser engraving, which is characterized by containing: (component A) a compound that has one or more condensable groups and one or more of radically chain transferable groups; (component B) a radically polymerizable compound; (component C) a radical polymerization initiator; and (component D) a binder polymer.
(FR) L'invention concerne : une composition de résine pour gravure au laser, qui fournit un film présentant une excellente uniformité au niveau de sa composition et une excellente résistance et qui permet de fournir une plaque d'impression en relief qui est réduite par fracturation de points de petite taille ; une plaque originale d'impression en relief qui utilise la composition de résine pour gravure au laser ; un procédé de production d'une plaque d'impression en relief, qui utilise la plaque originale d'impression en relief ; et une plaque d'impression en relief qui est obtenue grâce au procédé. L'invention concerne en particulier une composition de résine pour gravure au laser, qui est caractérisée en ce qu'elle comprend : (élément A) un composé qui comprend un ou plusieurs groupes condensables et un ou plusieurs groupes radicalement transférables par chaîne ; (élément B) un composé radicalement polymérisable ; (élément C) un initiateur de polymérisation radical ; et (élément D) un polymère liant.
(JA)  得られる膜の組成均一性及び強靭性に優れ、小サイズ網点の折れの少ないレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することを目的とする。 本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分A)縮合性基を1以上有し、かつラジカル連鎖移動性基を1以上有する化合物、(成分B)ラジカル重合性化合物、(成分C)ラジカル重合開始剤、及び、(成分D)バインダーポリマー、を含有することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130112096CN102958704EP2589495IN527/CHENP/2013