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1. (WO2012002030) 蛍光X線分析装置および方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/002030 国際出願番号: PCT/JP2011/059797
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 21.04.2011
IPC:
G01N 23/223 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22
二次放射の測定によるもの
223
試料をX線で照射し螢光X線を測定するもの
出願人:
株式会社リガク RIGAKU CORPORATION [JP/JP]; 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 9-12, Matsubara-cho 3-chome, Akishima-shi, Tokyo 1968666, JP (AllExceptUS)
喜多 広明 KITA, Hiroaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
小林 寛 KOBAYASHI, Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
喜多 広明 KITA, Hiroaki; JP
小林 寛 KOBAYASHI, Hiroshi; JP
代理人:
杉本修司 SUGIMOTO, Shuji; 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目10番2号 肥後橋ニッタイビル Higobashi Nittai Bldg., 10-2, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500002, JP
優先権情報:
2010-15182802.07.2010JP
発明の名称: (EN) FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'ANALYSE PAR RAYONS X À FLUORESCENCE
(JA) 蛍光X線分析装置および方法
要約:
(EN) Disclosed is a fluorescent X-ray analysis device comprising: a sample base (8) which has a sample (S) having a crystalline structure placed thereon; an X-ray source (1) which directs primary X-rays (2) onto the sample (S); detection means (7) which detects secondary X-rays (4) from the sample (S); rotation means (11) which rotates the sample base (8); parallel movement means (12) which moves the sample base (8) in a parallel manner; selection means (17) which selects at least three avoidance angles, which have an adjacent separation of less than 180° and make it possible to avoid diffracted X-rays, in accordance with a diffraction pattern acquired corresponding to the angle of rotation of the sample (S) and the intensity of the secondary X-rays (4) generated at said angle of rotation; and control means (15) which controls the rotation means (11) in such a way that the sample (S) is set at an avoidance angle such that the sample base (8), the rotation means (11), and the parallel movement means (12) do not interfere with other structures of the device.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'analyse par rayons X à fluorescence comprenant : une base d'échantillon (8) comprenant un échantillon (S) sur lequel est placée une structure cristalline ; une source de rayons X (1) qui dirige des rayons X primaires (2) sur l'échantillon (S) ; un moyen de détection (7) qui détecte des rayons X secondaires (4) venant de l'échantillon (S) ; un moyen de rotation (11) qui fait tourner la base d'échantillon (8) ; un moyen de déplacement parallèle (12) qui déplace la base d'échantillon (8) de manière parallèle ; un moyen de sélection (17) qui sélectionne au moins trois angles d'évitement séparés les uns des autres de moins de 180° et permettant d'éviter les rayons X diffractés en fonction d'un motif de diffraction acquis correspondant à l'angle de rotation de l'échantillon (S) et l'intensité des rayons X secondaires (4) générés audit angle de rotation ; et un moyen de commande (15) qui commande le moyen de rotation (11) de sorte que l'échantillon (S) est disposé à un angle d'évitement de manière que la base d'échantillon (8), le moyen de rotation (11) et le moyen de déplacement parallèle (12) n'interfèrent pas avec d'autres structures du dispositif.
(JA)  本発明の蛍光X線分析装置は、結晶構造を有する試料(S)が載置される試料台(8)と、試料(S)に1次X線(2)を照射するX線源(1)と、試料(S)からの2次X線(4)を検出する検出手段(7)と、試料台(8)を回転させる回転手段(11)と、試料台(8)を平行移動させる平行移動手段(12)と、試料(S)の回転角度とその角度で発生する2次X線(4)の強度とを対応させて取得した回折パターンに基づいて、隣り合う間隔が180°未満であって、回折X線を回避できる回避角度を少なくとも3つ選択するための選択手段(17)と、試料台(8)、回転手段(11)および平行移動手段(12)が当該装置の他の構造物と干渉しない回避角度に試料(S)を設定するように回転手段11を制御する制御手段(15)とを備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130101085EP2589956CN102959387KR1020130019030