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1. (WO2012001924) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2012/001924 国際出願番号: PCT/JP2011/003604
国際公開日: 05.01.2012 国際出願日: 23.06.2011
IPC:
C03C 19/00 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,C03C 3/087 (2006.01) ,C03C 3/095 (2006.01) ,G11B 5/73 (2006.01) ,G11B 5/84 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
19
繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,機械的手段による表面処理(ガラスのサンドブラスト,荒けずりまたはつや出しB24)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3
ガラスの組成物
04
シリカを含むもの
076
重量比で40%から90%シリカを有するもの
083
酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの
085
二価金属の酸化物を含むもの
087
酸化カルシウムを含むもの,例.通常の板ガラスまたは容器ガラス
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3
ガラスの組成物
04
シリカを含むもの
076
重量比で40%から90%シリカを有するもの
095
希土類を含むもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62
材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73
ベース層によって特徴づけられるもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
出願人:
コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Konica Minolta Advanced Layers, Inc. [JP/JP]; 東京都八王子市石川町2970番地 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505, JP (AllExceptUS)
中江 葉月 NAKAE, Hazuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
中江 葉月 NAKAE, Hazuki; JP
代理人:
小谷 悦司 KOTANI, Etsuji; 大阪府大阪市北区中之島2丁目2番2号大阪中之島ビル2階 Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
優先権情報:
2010-14740429.06.2010JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION-RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT EN VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
要約:
(EN) A process for producing a glass substrate for information-recording media is provided in which when silica-based abrasive grains as an abrasive material are circulated and used for precisely polishing a glass plate having a composition containing cerium oxide, the number of times in which the abrasive material is circulable and usable is prevented from being limited. With the process, a glass substrate for information-recording media which has a satisfactory degree of flatness can be obtained. The process for producing a glass substrate for information-recording media includes: a rough polishing step in which a glass plate (10) is roughly polished using a polishing device (1) and a polishing liquid (7) containing an abrasive material comprising cerium oxide as a main component and then cleansed so that the amount of cerium oxide present on the glass plate surfaces falls to 0.125 ng/cm2 or below; and a subsequent precise polishing step in which the roughly polished glass plate is precisely polished using an abrasive material comprising colloidal silica.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'un substrat en verre pour un support d'enregistrement d'informations dans lequel, lorsqu'on fait circuler des grains abrasifs à base de silice utilisés comme substance d'abrasion et qu'on les utilise pour polir précisément une plaque de verre ayant une composition contenant de l'oxyde de cérium, le nombre de fois que l'on peut faire circuler et utiliser le matériau abrasif n'est pas limité. Avec le procédé, on peut obtenir un substrat en verre pour un support d'enregistrement d'informations ayant un degré de planéité satisfaisant. Le procédé de production d'un substrat en verre pour support d'enregistrement d'informations comprend les étapes suivantes : une étape de polissage grossier dans laquelle une plaque de verre (10) est polie grossièrement à l'aide d'un dispositif de polissage (1) et un liquide de polissage (7) contenant un matériau abrasif dont le composant principal est un oxyde de cérium, puis la plaque est nettoyée afin que la quantité d'oxyde de cérium restant sur sa surface soit inférieure ou égale à 0,125 ng/cm2; et une étape suivante de polissage précis dans laquelle la plaque de verre polie grossièrement est polie précisément à l'aide d'un matériau abrasif contenant de la silice colloïde.
(JA) 本発明は、酸化セリウムを組成に含むガラス素板を精密研磨加工する際に、シリカ系砥粒を研磨材として循環使用するに当たり、循環使用できる回数が制限されることを防ぎ、しかも、平坦度の良好な情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、粗研磨工程で、研磨装置1と酸化セリウムを主成分とした研磨材を含む研磨液7とを用いてガラス素板10を粗研磨した後、ガラス素板表面の酸化セリウム量が0.125ng/cm以下となるようにガラス素板を洗浄する。その後、精密研磨工程で、コロイダルシリカを含む研磨材を用いて粗研磨後のガラス素板を精密研磨する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130102229JPWO2012001924