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1. WO2012001883 - 電子ビームの照射方法及び走査電子顕微鏡

公開番号 WO/2012/001883
公開日 05.01.2012
国際出願番号 PCT/JP2011/003214
国際出願日 08.06.2011
IPC
H01J 37/147 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
147希望する通路に沿って放電を直進しまたは偏向するための装置
H01J 37/244 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
244検出器;関連の構成要素またはそのための回路
H01J 37/28 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
26電子またはイオン顕微鏡;電子またはイオン回折管
28走査ビームを有するもの
CPC
H01J 2201/025
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2201Electrodes common to discharge tubes
02Arrangements for eliminating deleterious effects
025charging
H01J 2237/24592
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
245Detection characterised by the variable being measured
24592Inspection and quality control of devices
H01J 2237/281
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
28Scanning microscopes
2809characterised by the imaging problems involved
281Bottom of trenches or holes
H01J 37/147
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
H01J 37/244
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
244Detectors; Associated components or circuits therefor
H01J 37/28
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
28with scanning beams
出願人
  • 株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 小林 金也 KOBAYASHI, Kinya [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 横須賀 俊之 YOKOSUKA, Toshiyuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 李 燦 LEE, Chahn [KR]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 小林 金也 KOBAYASHI, Kinya
  • 横須賀 俊之 YOKOSUKA, Toshiyuki
  • 李 燦 LEE, Chahn
代理人
  • 井上 学 INOUE, Manabu
優先権情報
2010-14846330.06.2010JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ELECTRON BEAM IRRADIATION METHOD AND SCANNING ELECTRONIC MICROSCOPE
(FR) PROCÉDÉ D'IRRADIATION PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(JA) 電子ビームの照射方法及び走査電子顕微鏡
要約
(EN)
Provided is an electron beam scanning method for forming an electric field for appropriately guiding electrons emitted from a pattern to the outside of the pattern, and also provided is a scanning electronic microscope. When an electron beam for forming charge is irradiated to a sample, a first electron beam is irradiated to a first position (1) and a second position (2) having the center (104) of a pattern formed on the sample as a symmetrical point, and is then additionally irradiated to two central positions (3, 4) between the first and second irradiation position, the two central positions (3, 4) being on the same radius centered on the symmetrical point as are the first and second positions. Further, after that, the irradiation of the first electron beam to the central positions between existing scanning positions on the radius is repeated.
(FR)
L'invention concerne un procédé de balayage par faisceau d'électrons visant à former un champ électrique afin de guider de manière appropriée des électrons émis à partir d'un motif vers l'extérieur du motif, et concerne également un microscope électronique à balayage. Lorsqu'un faisceau d'électrons destiné à former une charge est rayonné vers un échantillon, un premier faisceau d'électrons est rayonné vers une première position (1) et une deuxième position (2) ayant comme point de symétrie le centre (104) d'un motif formé sur l'échantillon, puis est en plus rayonné vers deux positions centrales (3, 4) situées entre la première et la deuxième position d'irradiation, les deux positions centrales (3, 4) se situant sur le même rayon centré sur le point de symétrie que la première et la deuxième position. En outre, après cela, l'irradiation du premier faisceau d'électrons vers les positions centrales entre des positions existantes de balayage sur ledit rayon est répétée.
(JA)
本発明は、パターンから放出される電子を適正にパターン外に導くための電界を形成する電子ビーム走査方法、及び走査電子顕微鏡の提供を目的とする。上記目的を達成するために、帯電を形成するための電子ビームを、試料に照射する際に、試料上に形成されたパターンのパターン中心(104)を対称点とする第1の位置(1)と第2の位置(2)に、第1の電子ビームを照射した後、対称点を中心とした第1と第2の位置と同一の半径上であって、第1と第2の照射位置との間の2つの中心位置(3,4)に更に第1の電子ビームを照射し、更にその後、半径上の既走査位置間の中心位置への第1の電子ビームの照射を繰り返す。
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