国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2011132665) ハードディスク用アルミノシリケートガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/132665 国際出願番号: PCT/JP2011/059605
国際公開日: 27.10.2011 国際出願日: 19.04.2011
IPC:
B24B 37/00 (2012.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,G11B 5/73 (2006.01) ,G11B 5/84 (2006.01)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
14
抗スリップ物質;研摩物質
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62
材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73
ベース層によって特徴づけられるもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
出願人:
花王株式会社 KAO CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋茅場町一丁目14番10号 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210, JP (AllExceptUS)
土居陽彦 DOI Haruhiko; null (UsOnly)
内野陽介 UCHINO Yosuke; null (UsOnly)
西本和彦 NISHIMOTO Kazuhiko; null (UsOnly)
発明者:
土居陽彦 DOI Haruhiko; null
内野陽介 UCHINO Yosuke; null
西本和彦 NISHIMOTO Kazuhiko; null
代理人:
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 大阪府大阪市北区天満橋1丁目8番30号OAPタワー26階 26th Floor, OAP TOWER, 8-30, Tenmabashi 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5306026, JP
優先権情報:
2010-09697220.04.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING AN ALUMINOSILICATE GLASS SUBSTRATE FOR HARD DISKS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT EN VERRE ALUMINOSILICATÉ POUR DISQUES DURS
(JA) ハードディスク用アルミノシリケートガラス基板の製造方法
要約:
(EN) The disclosed method for manufacturing an aluminosilicate glass substrate for hard disks includes a step in which an aluminosilicate glass substrate is polished using a liquid polishing composition that contains silica particles, a polymer containing sulfonic acid groups, and water, with the adsorption constant of said polymer with respect to aluminosilicate glass being between 1.5 and 5.0 L/g. Said polymer preferably contains an aromatic ring and has a weight-average molecular weight preferably between 3,000 and 100,000.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat en verre aluminosilicaté pour disques durs. Ce procédé comprend une étape dans laquelle un substrat en verre aluminosilicaté est poli à l'aide d'une composition de polissage liquide qui contient des particules de silice, un polymère contenant des groupes acide sulfonique, et de l'eau, la constante d'adsorption dudit polymère par rapport au verre aluminosilicaté étant comprise entre 1,5 et 5,0 L/g. Ce polymère contient de préférence un noyau aromatique et a une masse moléculaire moyenne en poids se situant de préférence entre 3 000 et 100 000.
(JA)  本発明のハードディスク用アルミノシリケートガラス基板の製造方法は、シリカ粒子と、スルホン酸基を有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が1.5~5.0L/gである、研磨液組成物を用いて被研磨アルミノシリケートガラス基板を研磨する工程を含む。前記スルホン酸基を有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を有する重合体の重量平均分子量は、3000~100000であると好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130032571CN102858494VN32399MYPI 2012700783PH1/2012/502086