国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2011132616) 高耐擦傷性インプリント材料
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/132616 国際出願番号: PCT/JP2011/059420
国際公開日: 27.10.2011 国際出願日: 15.04.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 20/28 (2006.01) ,C08F 299/02 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
48
紫外線または可視光線によるもの
50
増感剤を用いるもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
26
カルボキシ酸素以外に酸素を含有するエステル
28
アルコール残基中に芳香族環を含有しないもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
299
非高分子量単量体の不存在下に,炭素-炭素不飽和結合のみが関与する重合体相互の反応によって得られる高分子化合物
02
不飽和重縮合物からのもの
出願人:
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP (AllExceptUS)
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei [JP/JP]; JP (UsOnly)
加藤 拓 KATO, Taku [JP/JP]; JP (UsOnly)
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke [JP/JP]; JP (UsOnly)
鈴木 正睦 SUZUKI, Masayoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
鈴木 正睦 SUZUKI, Masayoshi; JP
代理人:
萼 経夫 HANABUSA, Tsuneo; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ 萼特許事務所内 c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
優先権情報:
2010-09630019.04.2010JP
発明の名称: (EN) HIGHLY ABRASION-RESISTANT IMPRINT MATERIAL
(FR) MATÉRIAU D'EMPREINTE À GRANDE RÉSISTANCE À L'ABRASION
(JA) 高耐擦傷性インプリント材料
要約:
(EN) Provided is a highly abrasion-resistant imprint material. The imprint material comprises a compound that has C2-3 alkylene oxide units and at least two polymerizable groups as component (A) and a photopolymerization initiator as component (B). The polymerizable groups are at least one selected from the group consisting of acryloyloxy, acryloyl, methacryloyloxy, and methacryloyl groups. The imprint material can further comprise, in addition to component (A), a compound that has at least two polymerizable groups but does not have C2-3 alkylene oxide units as component (A').
(FR) Matériau d'empreinte à grande résistance à l'abrasion comprenant un composé renfermant des unités d'oxyde d'alkylène en C2-3 et au moins deux groupes polymérisables en tant que composant (A) et un initiateur de photopolymérisation en tant que composant (B). Les groupes polymérisables comprennent sont pris dans au moins un élément constitutif du groupe constitués de groupes acryloyloxy, acryloyle, méthacryloyloxy et méthacryloyle. Le matériau d'empreinte peut également comprendre, outre le composant (A), un composé comprenant au moins deux groupes polymérisables, mais pas d'unités d'oxyde d'alkylène en C2-3, en tant que composant (A').
(JA) 【課題】高耐擦傷性インプリント材料を提供する。 【解決手段】 (A)成分:炭素原子数2または3のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも2つ有する化合物、及び(B)成分:光重合開始剤を含み、前記重合性基はアクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基及びメタアクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも1種であるインプリント材料。前記(A)成分のほかに、(A´)成分として重合性基を少なくとも2つ有し且つ炭素原子数2または3のアルキレンオキサイドユニットを有さない化合物を更に含有することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2011132616KR1020130054960CN102939640JP2016195268