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1. (WO2011132287) 透明電極上における光触媒膜の形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/132287 国際出願番号: PCT/JP2010/057144
国際公開日: 27.10.2011 国際出願日: 22.04.2010
IPC:
C23C 26/00 (2006.01) ,B01J 35/02 (2006.01) ,H01L 31/04 (2006.01) ,H01M 14/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
26
グループ2/00から24/00に分類されない被覆
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
35
形態または物理的性質に特徴のある触媒一般
02
固体
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04
変換装置として使用されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
M
化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方法または手段,例.電池
14
6/00~12/00に分類されない電気化学的な電流または電圧の発生装置;その製造
出願人:
日立造船株式会社 HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市住之江区南港北1丁目7番89号 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi, Osaka 5598559, JP (AllExceptUS)
杉生 剛 SUGIYO, Takeshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
井上 鉄也 INOUE, Tetsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
杉生 剛 SUGIYO, Takeshi; JP
井上 鉄也 INOUE, Tetsuya; JP
代理人:
日比 紀彦 HIBI, Norihiko; 大阪府大阪市中央区西心斎橋1丁目13番18号 イナバビル3階 キシモト特許事務所内 c/o KISHIMOTO & CO., 3rd Floor, Inaba Building, 13-18, Nishishinsaibashi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420086, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD OF FORMING A PHOTOCATALYTIC FILM ON A TRANSPARENT ELECTRODE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM PHOTOCATALYTIQUE SUR UNE ÉLECTRODE TRANSPARENTE
(JA) 透明電極上における光触媒膜の形成方法
要約:
(EN) Disclosed is a method of forming a photocatalytic film capable of strengthening bonds between photocatalytic particles in the photocatalytic film, and between a transparent electrode and the photocatalytic particles of the photocatalytic film. A transparent electrode (3) comprises a transparent substrate (1) and a transparent conductive film (2) thereon. A metal oxide sol coating is applied electrostatically on the transparent conductive film (2), and a photocatalytic film is formed by low-temperature firing of the resulting coating. Before, after, or before and after the firing, the coating film or the photocatalytic film is irradiated with a laser.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film photocatalytique qui permet de renforcer la liaison entre particules de photocatalyseur à l'intérieur du film catalytique ainsi que la liaison entre les particules de photocatalyseur du film photocatalytique et l'électrode transparente. Ce procédé consiste, sur une électrode transparente (3) constituée d'un film conducteur transparent (2) et située sur un substrat transparent (1), à appliquer un revêtement électrostatique de sol d'oxyde métallique sur le film conducteur transparent (2), puis à cuire la membrane de revêtement ainsi produite à base température pour former un film photocatalytique. Après la cuisson, la membrane de revêtement et/ou le film photocatalytique sont soumis à un rayonnement laser.
(JA)  光触媒膜の内部における光触媒粒子同士の結合および光触媒膜の光触媒粒子と透明電極との結合を強固なものとすることができる光触媒膜の形成方法を提供する。 透明基板1と、その上の透明導電膜2とからなる透明電極3において透明導電膜2上に金属酸化物ゾルを静電塗布し、生じた塗膜を低温で焼成することにより光触媒膜を形成し、焼成の前後いずれか若しくは両方において塗膜または光触媒膜にレーザを照射する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN102859036KR1020130092986