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1. (WO2011132286) 透明電極上における光触媒膜の形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/132286 国際出願番号: PCT/JP2010/057143
国際公開日: 27.10.2011 国際出願日: 22.04.2010
IPC:
C23C 26/00 (2006.01) ,B01J 35/02 (2006.01) ,H01L 31/04 (2006.01) ,H01M 14/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
26
グループ2/00から24/00に分類されない被覆
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
35
形態または物理的性質に特徴のある触媒一般
02
固体
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04
変換装置として使用されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
M
化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方法または手段,例.電池
14
6/00~12/00に分類されない電気化学的な電流または電圧の発生装置;その製造
出願人:
日立造船株式会社 HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市住之江区南港北1丁目7番89号 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi, Osaka 5598559, JP (AllExceptUS)
杉生 剛 SUGIYO, Takeshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
井上 鉄也 INOUE, Tetsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
杉生 剛 SUGIYO, Takeshi; JP
井上 鉄也 INOUE, Tetsuya; JP
代理人:
日比 紀彦 HIBI, Norihiko; 大阪府大阪市中央区西心斎橋1丁目13番18号 イナバビル3階 キシモト特許事務所内 c/o KISHIMOTO & CO., 3rd Floor, Inaba Building, 13-18, Nishishinsaibashi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420086, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD OF FORMING A PHOTOCATALYTIC FILM ON TRANSPARENT ELECTRODE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM PHOTOCATALYTIQUE SUR UNE ÉLECTRODE TRANSPARENTE
(JA) 透明電極上における光触媒膜の形成方法
要約:
(EN) Disclosed is a method of forming a photocatalytic film capable of strengthening bonds between photocatalytic particles in the photocatalytic film, and between a transparent electrode and photocatalytic particles of the photocatalytic film. A paste containing titanium oxide particles is applied to a transparent electrode (3) comprising a transparent substrate (1) and a transparent conductive film (2) thereon and dried to form a photocatalytic film (4) on the transparent conductive film (2) of the transparent electrode (3). Then, the photocatalytic film (4) is irradiated with an alexandrite laser (700-820nm) from the side of the transparent electrode (3). Thereafter, the photocatalytic film (4) is immersed in an immersion solution containing a photosensitizing dye which is absorbed by the surface of the photocatalytic film.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film photocatalytique qui permet de renforcer la liaison entre particules de photocatalyseur à l'intérieur du film catalytique ainsi que la liaison entre les particules de photocatalyseur du film photocatalytique et l'électrode transparente. Ce procédé consiste à appliquer puis à sécher une pâte contenant des particules d'oxyde de titane sur un substrat transparent (1) sur lequel est située une électrode transparente (3) constituée d'un film conducteur transparent (2). Ensuite, un film photocatalytique (4) est formé sur le film conducteur transparent (2) de l'électrode transparente (3). En outre, le film photocatalytique (4) est soumis au rayonnement d'un laser à alexandrite (700-820 nm) à partir du côté de l'électrode transparente (3). Ensuite, le film photocatalytique (4) est plongé dans un liquide d'immersion contenant des pigments photosensibles et ces pigmentes sont absorbés dans la surface du film photocatalytique.
(JA) 【課題】光触媒膜の内部における光触媒粒子同士の結合および光触媒膜の光触媒粒子と透明電極との結合を強固なものとすることができる光触媒膜の形成方法を提供する。 【解決手段】透明基板1と、その上の透明導電膜2とからなる透明電極3に、酸化チタン粒子を含むペーストを塗布し、乾燥、透明電極3の透明導電膜2の上に光触媒膜4を形成した。ついで、光触媒膜4に透明電極3側からアレキサンドライトレーザ(700-820nm)を照射した。その後、この光触媒膜4に、光増感色素を含む浸漬液に浸して光触媒膜の表面に同色素を吸着させた。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN102859037KR1020130051946