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1. (WO2011129386) 架橋性組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/129386 国際出願番号: PCT/JP2011/059239
国際公開日: 20.10.2011 国際出願日: 14.04.2011
IPC:
C08G 73/00 (2006.01) ,C08G 16/02 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01) ,H01L 51/05 (2006.01) ,H01L 51/30 (2006.01) ,H01L 51/40 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
16
アルデヒドまたはケトンの,グループC08G4/00からC08G14/00に属さない単量体との重縮合体
02
アルデヒドの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
786
薄膜トランジスタ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
05
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用されるものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するコンデンサーまたは抵抗器
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
05
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用されるものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するコンデンサーまたは抵抗器
30
材料の選択
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
05
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用されるものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するコンデンサーまたは抵抗器
40
このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
出願人:
株式会社ダイセル Daicel Corporation [JP/JP]; 大阪府大阪市北区梅田三丁目4番5号 毎日インテシオ MAINICHI INTECIO. 3-4-5, Umeda, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001, JP (AllExceptUS)
福井 和寿 FUKUI Kazuhisa [JP/JP]; JP (UsOnly)
舩木 克典 FUNAKI Yoshinori [JP/JP]; JP (UsOnly)
延谷 真実 NOBUTANI Mami [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
福井 和寿 FUKUI Kazuhisa; JP
舩木 克典 FUNAKI Yoshinori; JP
延谷 真実 NOBUTANI Mami; JP
代理人:
鍬田 充生 KUWATA Mitsuo; 大阪府大阪市北区西天満6丁目3番17号みなと梅田ビル6階 鍬田充生特許事務所 KUWATA & CO., 6th Floor, Minato Umeda Building, 3-17, Nishitemma 6-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047, JP
優先権情報:
2010-09552716.04.2010JP
発明の名称: (EN) CROSSLINKED COMPOSITION
(FR) COMPOSITION RÉTICULÉE
(JA) 架橋性組成物
要約:
(EN) Disclosed is a composition (for example, a coating composition) which can be used to form an organic semiconductor having superior conductivity, solvent resistance, heat resistance and durability. Also disclosed is an organic semiconductor which is formed using the composition. The composition comprises: an aromatic polycarbonyl compound having a carbonyl group as a reactive site; and at least one aromatic reaction component selected from an aromatic polyamine having an amine group as a reactive site, and an aromatic heterocyclic compound having a plurality of unmodified α-carbon positions as reactive sites, said α-carbon positions being adjacent to heterocyclic heteroatoms. If the aromatic reaction component is an aromatic heterocyclic compound, the aromatic polycarbonyl compound is an aromatic polyaldehyde compound. An organic semiconductor having a three-dimensional crosslinked structure is formed using a composition in which at least one component among the aromatic polycarbonyl compound and the aromatic reaction component has at least three reactive sites.
(FR) La présente invention concerne une composition (par exemple, une composition de revêtement) pouvant être utilisée pour former un semi-conducteur organique ayant une conductivité, une résistance aux solvants, une résistance à la chaleur et une durabilité supérieures. L'invention concerne également un semi-conducteur organique qui est formée à l'aide de la composition. La composition comporte: un composé polycarbonyle aromatique comprenant un groupe carbonyle en tant que site réactif ; et au moins un composant réactionnel aromatique choisi parmi une polyamine aromatique ayant un groupe amine en tant que site réactif, et un composé hétérocyclique aromatique ayant une pluralité de positions alpha de carbone non modifiées en tant que sites réactifs, lesdites positions alpha de carbone étant adjacentes aux hétéroatomes hétérocycliques. Si le composant réactionnel aromatique est un composé hétérocyclique aromatique, le composé polycarbonyle aromatique est un composé polyaldéhyde aromatique. Un semi-conducteur organique ayant une structure tridimensionnelle réticulée est formé au moyen d'une composition dans laquelle au moins un composant parmi le composé polycarbonyle aromatique et le composant réactionnel aromatique comprend au moins trois sites réactifs.
(JA)  導電性、耐溶剤性、耐熱性、耐久性などに優れる有機半導体を形成するのに有用な組成物(例えば、コーティング組成物)及びこの組成物で形成された有機半導体などを提供することにある。 組成物は、反応部位としてのカルボニル基を有する芳香族ポリカルボニル化合物と、反応部位としてのアミノ基を有する芳香族ポリアミンおよび複素環のヘテロ原子に隣接し、かつ反応部位としての複数の未修飾のα-炭素位を有する芳香族複素環式化合物から選択された少なくとも1つの芳香族反応成分とを含んでおり、芳香族反応成分が芳香族複素環式化合物であるとき、芳香族ポリカルボニル化合物が芳香族ポリアルデヒド化合物である。前記芳香族ポリカルボニル化合物及び芳香族反応成分のうち、少なくとも1つの成分が、1分子中に3以上の反応部位を有する組成物を用いて、三次元的架橋構造を有する有機半導体を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
EP2559720US20130026458CN102985465JPWO2011129386KR1020130051942