国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2011129369) 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/129369 国際出願番号: PCT/JP2011/059189
国際公開日: 20.10.2011 国際出願日: 13.04.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
木内 徹 KIUCHI Tohru [JP/JP]; JP (UsOnly)
水谷 英夫 MIZUTANI Hideo [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
木内 徹 KIUCHI Tohru; JP
水谷 英夫 MIZUTANI Hideo; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA Masatake; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620, JP
優先権情報:
61/323,51413.04.2010US
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
要約:
(EN) Disclosed is an exposure apparatus that transfers a pattern to a substrate, while rotating the pattern in the circumferential direction of a predetermined cylindrical surface, said pattern being provided along the cylindrical surface. The exposure apparatus is provided with: a first projection optical system, which projects an image of a first partial pattern to a first projection region, said first partial pattern being a pattern part disposed in the first region of the cylindrical surface; a second projection optical system, which projects an image of a second partial pattern to a second projection region different from the first projection region, said second partial pattern being a pattern part disposed in a second region different from the first region; and a guide apparatus, which guides the substrate to the first projection region and the second projection region in synchronization with the rotation of the pattern in the circumferential direction.
(FR) L'invention porte sur un appareil d'exposition, qui transfère un motif à un substrat, tout en faisant tourner le motif dans la direction circonférentielle d'une surface cylindrique prédéterminée, ledit motif étant disposé le long de la surface cylindrique. L'appareil d'exposition comporte : un premier système optique à projection, qui projette une image d'un premier motif partiel sur une première région de projection, ledit premier motif partiel étant une partie de motif disposée dans la première région de la surface cylindrique ; un second système optique à projection, qui projette une image d'un second motif partiel sur une seconde région de projection différente de la première région de projection, ledit second motif partiel étant une partie de motif disposée dans une seconde région différente de la première région ; et un appareil de guidage, qui guide le substrat vers la première région de projection et la seconde région de projection en synchronisme avec la rotation du motif dans la direction circonférentielle.
(JA)  本発明の態様に係る露光装置は、所定の円筒面に沿って設けられたパターンを前記円筒面の円周方向に回転させつつ前記パターンを基板に転写する露光装置であって、前記パターンのうち前記円筒面の第1領域に配置される第1部分パターンの像を第1投影領域に投影する第1投影光学系と、前記パターンのうち前記第1領域と異なる第2領域に配置される第2部分パターンの像を、前記第1投影領域と異なる第2投影領域に投影する第2投影光学系と、前記パターンの前記円周方向への回転に同期して、前記第1投影領域及び前記第2投影領域に前記基板を案内する案内装置と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130027684CN102834778JPWO2011129369KR1020130041785